COA型阵列基板.pdf
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相关资料
COA型阵列基板.pdf
本发明提供一种COA型阵列基板,通过将色阻单元的外边缘的全部或者一部分设于所述第一金属层和/或第二金属层上,一方面能够利用第一金属层和/或第二金属层起到垫高作用,减小所述COA阵列基板在色阻单元的外边缘位置处的地形段差,从而在对透明导电层进行图案化时,能够降低涂布于色阻单元外边缘位置的光刻胶的厚度,使其易于通过曝光显影去除掉;另外,所述第一金属层与第二金属层均具有反射特性,能够提升曝光效果,使涂布于所述色阻单元外边缘位置的光刻胶被充分曝光,并通过显影去除;本发明的COA型阵列基板通过以上两方面的效果来消除
光罩结构及COA型阵列基板.pdf
本发明提供一种光罩结构及COA型阵列基板。所述光罩结构包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5),曝光光线经过所述镂空狭缝(5)会发生衍射,产生传播反向的弯散及能量强度的渐变,配合负性光阻,能够使得最终制得的彩膜层过孔的坡度变缓,从而改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量,避免出现显示不良。
一种COA阵列基板制作方法及相应的COA阵列基板.pdf
本发明提供一种COA阵列基板制作方法及相应的COA阵列基板,其中,制作方法包括:在基板上从下往上依次设置RGB三原色色阻、保护层及光阻;提供一光罩,在对应R色阻的位置开设第一通孔,在对应其他色阻的位置至少开设一个第二通孔,并在所述第二通孔处制作半透膜;采用所述光罩对所述光阻进行曝光和显影;对所述保护层以及被曝光、显影后的光阻进行干刻,在所述保护层上形成与R色阻贯通的透气孔和对应其他色阻位置的透气部。本发明使残留在色阻内的小分子气体,除了通过透气孔排出之外,还可以经由透气部排出,并且透气部位于对应其他色阻的
COA阵列基板、制备方法及显示装置.pdf
本发明涉及一种COA阵列基板、制备方法及显示装置。该COA阵列基板包括:设于基板上的TFT阵列;设于TFT阵列上方的图形化彩色滤光层图形;所述彩色滤光层图形在栅极线区域挖开,在数据线区域互相连接交叠;在数据线上方平行设有DBS公共电极走线;在栅极线区域设有沿栅极线方向延伸将相邻两DBS公共电极走线互相连接的至少一条ITO连接线,至少一条所述ITO连接线为沿彩色滤光层图形边界坡面底部延伸的ITO连接线。本发明还提供了相应的制备方法及显示装置。本发明的COA阵列基板、制备方法及显示装置设置一条在彩色滤光膜图形
COA基板的制作方法及COA基板.pdf
本发明提供一种COA基板的制作方法及COA基板,方法包括步骤:形成第一金属层;形成栅极;形成栅极绝缘层、有源层、欧姆接触层及源/漏极;形成绝缘层;形成色阻层;形成第一钝化层及第二钝化层,第一钝化层的成膜速率小于第二钝化层的成膜速率;形成不同厚度的第一光阻区域和第二光阻区域;移除未被第一光阻区域、第二光阻区域覆盖的第一钝化层及第二钝化层,暴露出漏极;保留部分第一光阻区域,去除第二光阻区域;移除未被部分第一光阻区域覆盖的第二钝化层,暴露出第一钝化层;沉积透明导电薄膜;移除部分第一光阻区域及沉积在其上的透明导电