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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108218252A(43)申请公布日2018.06.29(21)申请号201810235914.4(22)申请日2018.03.21(71)申请人上海耀皮玻璃集团股份有限公司地址201203上海市浦东新区张东路1388号4-5幢(72)发明人田力范少峰田博仁冯岱许浩(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人巩克栋(51)Int.Cl.C03C17/34(2006.01)权利要求书3页说明书11页附图1页(54)发明名称一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途(57)摘要本发明提供了一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途。所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板和无色镀膜层,所述无色镀膜层镀在着色玻璃基板的表面。所述的镀膜玻璃制备方法包括以下步骤:着色玻璃基板从上游向下游移动的过程中,在玻璃表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃。本发明提供的镀膜玻璃可见光透过率低、节能效果好,具有优异的紫外吸收性能和低辐射性能,该镀膜玻璃冬季可以有效的保留热量,夏季可反射80%以上的阳光辐射热,同时具有优秀的防紫外辐射功能,低辐射效果和遮阳效果俱佳。本发明提供的制备方法操作简单,工艺稳定,可用于规模化生产。CN108218252ACN108218252A权利要求书1/3页1.一种镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板(2)和无色镀膜层(1),所述无色镀膜层(1)镀在着色玻璃基板(2)的表面。2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃由着色玻璃基板(2)和无色镀膜层(1)组成,所述无色镀膜层(1)镀在着色玻璃基板(2)的表面;优选地,所述无色镀膜层(1)为三层结构,所述无色镀膜层(1)自着色玻璃基板(2)向外依次为颜色抑制层(101)、离子阻挡层(102)和导电层(103)。3.根据权利要求2所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述颜色抑制层(101)的厚度为18nm-22nm,优选为20nm;优选地,所述离子阻挡层(102)的厚度为21nm-25nm,优选为23nm;优选地,所述导电层(103)的厚度为300nm-330nm,优选为320nm。4.根据权利要求2或3所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述颜色抑制层(101)为二氧化锡层;优选地,所述离子阻挡层(102)为二氧化硅层;优选地,所述导电层(103)为氟掺杂二氧化锡层;优选地,所述氟掺杂二氧化锡中,氟元素与锡元素的摩尔比为4:8-4:10,优选为4:9。5.根据权利要求1-4任一项所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述着色玻璃基板(2)为绿色玻璃基板;优选地,所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm-8mm,优选为3.5mm、5mm、6mm或8mm。6.根据权利要求1-5任一项所述的镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的过程中,在着色玻璃基板(2)表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃;优选地,所述沉积为化学气相沉积;优选地,所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动在浮法锡槽中进行;优选地,所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的速度为330m/h-830m/h。7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法中,用镀膜器在玻璃表面进行在线沉积镀膜;优选地,所述镀膜器为并排的5个镀膜器,从上游到下游依次为第一镀膜器(3)、第二镀膜器(4)、第三镀膜器(5)、第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7);优选地,所述第一镀膜器(3)镀颜色抑制层;优选地,所述第一镀膜器(3)镀二氧化锡层;优选地,所述第二镀膜器(4)和第三镀膜器(5)均镀离子阻挡层;优选地,所述第二镀膜器(4)和第三镀膜器(5)均镀二氧化硅层;优选地,所述第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)均镀导电层;优选地,所述第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)均镀氟掺杂二氧化锡层。8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体成分为氮气、氧气和二甲基二氯化锡的混合气;优选地,所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中,氮气的流量为380L/min-400L/min,优选为390L/min;2CN108218252A权利要求书2/3页优选地,所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中,氧气的流量为220L/min-240L/min,优选为230L/min;优选地,所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中,二甲基二氯化锡的流量为0.8kg/h-3kg/h;优选地,所述第一镀膜器(3)使用的工艺气体中,二甲基二氯化锡的流量与着色玻璃基板(2)的移动速率成正比;优选地,所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体成分为氮气和硅烷的混合气;优选地,所述第二镀膜器(4)使用的工艺气体中,氮气的流量为39