一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108191259A(43)申请公布日2018.06.22(21)申请号201810148716.4(22)申请日2018.02.13(71)申请人江苏奥蓝工程玻璃有限公司地址226000江苏省南通市崇川区通京大道370号1幢(72)发明人黄丽莎顾海波(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限公司44202代理人郝传鑫贾允(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)权利要求书2页说明书5页(54)发明名称一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设于玻璃基片上，镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。本发明镀膜层沉积性好，镀膜层致密、厚度适中，平整度和硬度高，机械强度和耐化学侵蚀能力较高，辐射率低，不易划伤、擦伤，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，清洗后抗氧化性稳定，能够保持原有性能。CN108191259ACN108191259A权利要求书1/2页1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，所述第一氮化硅层的厚度大于等于第二氮化硅层的厚度，所述第一氧化锌铝层的厚度小于等于第二氧化锌铝层的厚度，所述第一金属镍铬层的厚度大于等于第二金属镍铬层的厚度。2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度大于第二氮化硅层的厚度，所述第一氧化锌铝层的厚度小于第二氧化锌铝层的厚度，所述第一金属镍铬层的厚度大于第二金属镍铬层的厚度。3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，所述第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，所述第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。4.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为5-10mm。5.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40-50nm，所述第二氮化硅层的厚度35-40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为15-22nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为23-30nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2-3nm，所述第二金属镍铬层的厚度为0.5-2nm。6.根据权利要求5所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为45nm，所述第二氮化硅层的厚度40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为25nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2nm，所述第二金属镍铬层的厚度为1nm。7.根据权利要求5所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40nm，所述第二氮化硅层的厚度40nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第二氧化锌铝层的厚度为25nm，所述第一金属镍铬层的厚度为2nm，所述第二金属镍铬层的厚度为2nm。8.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为10-20nm。9.一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、选择5-10mm厚度的玻璃基片，按预设尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；S2、将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa，线速度设置为2-4m/min；S3、将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第一氮化硅层；S4、设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第一氧化锌铝层；S5、设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为2-3nm的第一金属镍铬层；S6、设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-4.5KW，在玻璃基片上溅射厚度为10-20nm的金属银层；S7、设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第二金属镍铬层；2CN108191259A权利要求书2/2页S8、设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为23-30nm的第二氧化锌铝层；S9、设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为35-40nm的第二氮化硅层；即得低辐射镀膜玻璃。