一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115650581A(43)申请公布日2023.01.31(21)申请号202210845429.5(22)申请日2022.07.19(71)申请人天津耀皮玻璃有限公司地址300450天津市滨海新区大港北围堤路(西)1168号(72)发明人田力范少峰冯岱邵帅伊洋洋(74)专利代理机构北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638专利代理师杨剑(51)Int.Cl.C03C6/04(2006.01)C03C1/00(2006.01)C03B25/00(2006.01)C03C17/245(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法(57)摘要本发明公开了一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，通过真空磁控溅射工艺在成形的玻璃的表面上镀一层纳米金属氧化物材料，使玻璃形成镀膜玻璃，另外可以使玻璃的辐射率从降低，本发明涉及玻璃技术领域。该遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，通过纳米金属氧化物材料使纳米金属氧化物材料遮阳效果和低辐射低透过效果俱佳，可强烈吸收阳光中的紫外线，具有优秀的防紫外辐射功能，同时该镀膜玻璃冬季可以有效的保留热量，夏季可反射80％以上的阳光辐射热，具有同样优秀的节能效果，解决了透明玻璃上镀有色膜，使玻璃具有一定的遮阳效果，在透明玻璃上镀低辐射膜层，使玻璃具有一定的节能效果，两者无法兼顾的问题。CN115650581ACN115650581A权利要求书1/1页1.一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，制备方法包括以下步骤：S1、配料，按照设计好的料方单,将各种原料称量后在一混料机内混合均匀；S2、熔制,将配好的原料在熔窑中经过高温加热,形成均匀的无气泡的玻璃液；S3、成形，将熔制好的玻璃液在一定温度范围内转变成具有固定形状的固体制品；S4、退火,将玻璃形成的固定形状的固体制品在一温度范围内保温或缓慢降温一段时间以清理或减少玻璃中热应力，使其完全成形；S5、边角打磨，在通过人工或者机械设备来对成形的玻璃进行边角的精打磨；S6、真空磁控溅射工艺，通过真空磁控溅射工艺在成形的玻璃的表面上镀一层纳米金属氧化物材料，使玻璃形成镀膜玻璃，另外可以使玻璃的辐射率从从0.837ε大幅降低至0.29ε。2.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S1步骤中，原料包括石英砂、石灰石、长石、纯碱和硼酸一种或多种组成。3.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S2步骤中，熔制的温度为1200゜C‑1700゜C包括两种类型，第一种是坩埚窑，玻璃料盛在坩埚内，在坩埚外面加热，坩埚窑是间隙式生产的，第二种是池窑，玻璃料在窑池内熔制，明火在玻璃液面上部加热，玻璃的熔制温度大多在1300゜C～1600゜C。4.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S3步骤中，温度范围为40‑80゜C。5.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S5步骤中，打磨使用的砂轮为800‑1200目，其中磨削量为1mm‑2.5mm。6.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S6步骤中，纳米金属氧化物材料为无色镀膜层，其中无色镀膜层包括颜色抑制层、离子阻挡层和导电层一种或多种组成。7.根据权利要求6所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述颜色抑制层的厚度为21nm‑24nm、离子阻挡层的厚度为23nm‑26nm、导电层的厚度为300nm‑330nm。8.根据权利要求1所述的一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述S6步骤中，形成的镀膜玻璃为深灰色玻璃。2CN115650581A说明书1/5页一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法技术领域[0001]本发明涉及玻璃技术领域，具体为一种遮阳型低辐射低透过镀膜玻璃的制备方法。背景技术[0002]镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low‑E)、导电膜玻璃等，热反射玻璃一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜，使产品呈丰富的色彩，对于可见光有适当的透射率，对红外线有较高的反射率，对紫外线有较高吸收率，因此，也称为阳光控制玻璃，主要用于建筑和玻璃幕墙；低辐射玻璃是在玻璃表面镀由多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系，产品对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，