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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108987338A(43)申请公布日2018.12.11(21)申请号201710400016.5(22)申请日2017.05.31(71)申请人南京瀚宇彩欣科技有限责任公司地址210038江苏省南京市经济技术开发区恒飞路18号申请人瀚宇彩晶股份有限公司(72)发明人陈谚宗苏振豪(74)专利代理机构北京中誉威圣知识产权代理有限公司11279代理人王正茂丛芳(51)Int.Cl.H01L21/78(2006.01)H01L21/683(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图13页(54)发明名称软性电子装置的形成方法(57)摘要本发明公开了一种软性电子装置的形成方法,包括:提供承载基板;在承载基板上形成离型层;在离型层上形成软性基板,软性基板具有相对的第一表面与第二表面,第一表面是面对离型层,其中软性基板不接触承载基板;在软性基板上形成元件层,元件层具有相对的第三表面与第四表面,第三表面是面对软性基板;以及使软性基板与离型层分离,并使离型层保留在承载基板上。借此,可以回收离型层与承载基板。CN108987338ACN108987338A权利要求书1/2页1.一种软性电子装置的形成方法,其特征在于,所述形成方法包括:提供承载基板;在所述承载基板上形成离型层;在所述离型层上形成软性基板,所述软性基板具有相对的第一表面与第二表面,所述第一表面是面对所述离型层,其中所述软性基板不接触所述承载基板;在所述软性基板上形成元件层,所述元件层具有相对的第三表面与第四表面,所述第三表面是面对所述软性基板;以及使所述软性基板与所述离型层分离,并使所述离型层保留在所述承载基板上。2.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述软性基板与所述离型层之间的剥离力大于或等于5gf/cm并且小于或等于10gf/cm。3.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述软性基板与所述离型层之间的剥离力小于所述离型层与所述承载基板之间的剥离力。4.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述元件层包括触控电极、薄膜晶体管、发光二极管、或其组合。5.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述软性基板包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、环烯烃聚合物、聚碳酸酯、聚甲基丙酰酸甲酯、环烯烃共聚物、三醋酸纤维素、聚丙烯、聚苯乙烯或玻璃。6.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,所述软性基板在所述承载基板上的投影是完全位于所述离型层在所述承载基板上的投影内。7.如权利要求6所述的形成方法,其特征在于,所述离型层具有第一边、第二边、第三边与第四边,所述第一边与所述第三边相对设置,所述第二边与所述第四边相对设置,形成所述软性基板的步骤包括:从所述离型层的所述第二边涂布所述软性基板的材料至所述离型层的所述第四边,其中所述软性基板与所述离型层的所述第一边之间具有第一间距,所述软性基板与所述离型层的所述第二边之间具有第二间距,所述软性基板与所述离型层的所述第三边之间具有第三间距,所述软性基板与所述离型层的所述第四边之间具有第四间距,并且所述第二间距和所述第四间距大于所述第一间距和所述第三间距。8.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,在使所述软性基板与所述离型层分离的步骤之前,所述形成方法还包括:在所述元件层的所述第四表面上设置第一支持层。9.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,所述第一支持层与所述元件层之间的粘着力大于所述软性基板与所述离型层之间的粘着力。10.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,在使所述软性基板与所述离型层分离的步骤之后,所述形成方法还包括:在所述软性基板的所述第一表面上设置第二支持层。11.如权利要求10所述的形成方法,其特征在于,在所述软性基板的所述第一表面上设置所述第二支持层的步骤之后,所述形成方法还包括:将所述第一支持层、所述元件层、所述软性基板与所述第二支持层分割为多个区域以形成多个软性电子单元;以及2CN108987338A权利要求书2/2页移除所述第一支持层。12.如权利要求11所述的形成方法,其特征在于,在移除所述第一支持层的步骤之后,所述形成方法还包括:在所述元件层的所述第四表面上设置保护膜、偏光片、承载玻璃、或其组合。13.如权利要求11所述的形成方法,其特征在于,所述第二支持层为偏光片,并且在移除所述第一支持层的步骤之后,所述形成方法还包括:在所述元件层的所述第四表面上设置保护膜、承载玻璃、或其组合。14.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,在使所述软性基板与所述离型层分离之后,所述形成方法还包括:清洗所述离型层与所述承载基板;以及在所述离型层上形成另一个软性基板。15.一种软性电子装置的形成方法,其特征在于,所述形成方法包括:提供承载基板;在所述