压印模板及其制备方法和压印方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109445247A(43)申请公布日2019.03.08(21)申请号201811366008.4(22)申请日2018.11.16(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人谭伟郭康谷新(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人汪源陈源(51)Int.Cl.G03F7/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称压印模板及其制备方法和压印方法(57)摘要本公开提供了一种压印模板，包括：衬底基板、压印用图形层和平坦化层；所述平坦化层位于所述压印用图形层背向衬底基板一侧的表面，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧表面为平面；所述平坦化层和所述压印用图形层被配置为：在特定除膜工艺下，所述平坦化层被去除，而所述压印用图形层保留。本公开还提供了一种压印模板的制备方法和压印方法。CN109445247ACN109445247A权利要求书1/2页1.一种压印模板，其特征在于，包括：衬底基板、压印用图形层和平坦化层；所述平坦化层位于所述压印用图形层背向衬底基板一侧的表面，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧表面为平面；所述平坦化层和所述压印用图形层被配置为：在特定除膜工艺下，所述平坦化层被去除，而所述压印用图形层保留。2.根据权利要求1所述的压印模板，其特征在于，所述平坦化层的材料包括：水溶性材料或可降解材料。3.根据权利要求2所述的压印模板，其特征在于，所述水溶性材料包括：聚乙烯醇树脂和聚己内酯树脂中的至少一种；所述可降解材料包括：可降解型压印胶。4.根据权利要求1所述的压印模板，其特征在于，还包括：缓冲层；所述缓冲层位于所述衬底基板和所述压印用图形层之间。5.一种压印模板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成压印用图形层；在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧表面为平面；其中，所述平坦化层和所述压印用图形层被配置为：在特定除膜工艺下，所述平坦化层被去除，而所述压印用图形层保留。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层的步骤包括：通过涂布工艺在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧表面形成平坦化材料膜；利用平整模板对所述平坦化材料膜背向所述衬底基板的一侧进行平整化；对所述平坦化材料膜进行固化处理，以形成所述平坦化层；将所述平整模板与所述平坦化层分离。7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层的步骤包括：通过涂布工艺在所述压印用图形层背向所述衬底基板的一侧表面形成平坦化材料膜；将所述平坦化材料膜静置预定时长后，对所述平坦化材料膜进行固化处理。8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成压印用图形层的步骤包括：通过涂布工艺在衬底基板的一侧表面形成模板胶；利用母模板对所述模板胶背向所述衬底基板的一侧进行图案化；对所述模板胶进行固化处理，以形成所述压印用图形层；将所述母模板与所述压印用图形层分离。9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成压印用图形层的步骤之前，还包括：在衬底基板上形成缓冲层。10.一种压印方法，其特征在于，所述压印方法基于权利要求1-4中任一所述的压印模板，所述压印方法包括：2CN109445247A权利要求书2/2页利用所述压印模板内所述平坦化层对压印胶进行压印，以对所述压印胶的表面进行平整化；通过特定除膜工艺去除所述平坦化层，所述压印用图形层露出；利用所述压印模板内所述压印用图形层对所述压印胶进行压印，以对所述压印胶进行图案化。11.根据权利要求10所述的压印方法，其特征在于，当所述平坦化层的材料包括水溶性材料时，所述通过特定除膜工艺去除所述平坦化层的步骤包括：使用水溶剂将所述平坦化层溶解；当所述平坦化层的材料包括可降解材料时，所述通过特定除膜工艺去除所述平坦化层的步骤包括：通过降解工艺将所述平坦化层降解。12.根据权利要求11所述的压印方法，其特征在于，在所述通过特定除膜工艺去除所述平坦化层的步骤之后，还包括：对所述压印模板进行干燥处理。3CN109445247A说明书1/6页压印模板及其制备方法和压印方法技术领域[0001]本公开涉及显示技术领域，特别涉及压印模板及其制备方法和压印方法。背景技术[0002]在进行纳米压印工艺时，待处理基板上压印胶的表面平坦度直接影响压印效果；具体地，若压印胶的表面存在段差，在压印脱模时位于段差位置处会出现大面积的压印胶脱落、压印图形扭曲变形的现象。[0003]针对上述问题，目前的解决方案是