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掩模清洗装置以及掩模清洗方法.pdf
2023-11-15
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相关资料
掩模清洗装置以及掩模清洗方法.pdf
本发明涉及一种掩模清洗装置以及掩模清洗方法，其能够清洗残留在有机发光装置用金属掩模表面上的有机物。所述掩模清洗装置可以包括：真空腔室，在内部形成有能够收纳掩模的收纳空间，并且在内部形成真空环境，从而易于去除残留在所述掩模上的有机物；第一清洗光照射装置，能够向收纳于所述真空腔室中的所述掩模照射清洗光，从而在所述真空环境下对所述有机物施加光能，以便能够从所述掩模分解并分离所述有机物以进行去除；以及控制部，能够向所述第一清洗光照射装置提供脉冲波电源。
2023-11-15
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光掩模、光掩模组、曝光装置以及曝光方法.pdf
本发明的课题在于提供能够提高电路板与分别配置于电路板的表面和背面上的光掩模之间的对位精度的光掩模；本发明的光掩模(70)具备：描绘图形(73)，其形成于光掩模(70)的与电路板(P)相对置的一面上且用于进行曝光；第一对位标记(TM1)，其设置于一面中的、在保持电路板(P)时与电路板(P)相对置且未形成有描绘图形(73)的部位上，并且用于与形成于电路板(P)上的电路板侧标记(P5)进行对位；以及第二对位标记(TM2)，其设置于在保持电路板(P)时不与该电路板(P)相对置的部位上，并且用于与设置于另一光掩模(
2023-06-25
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掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置.pdf
本发明属于掩模保护领域，尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置，其中，掩模护膜包括支撑框以及保护膜，所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面，所述抵靠面以及装膜面均呈环形，所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面，所述粘接平面开设有多个吸胶孔，所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道，所述排气通道于外环面开设有一个排气孔。将掩模护膜从掩模版移除之后，掩模版上不会残留有粘胶。
2023-11-06
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一种新型的掩模清洗方法.pdf
本发明公开了一种新型的掩模清洗方法，其包括以下步骤：S1、使用臭氧和去离子水的混合液进行清洗，去除光刻胶等有机物或是缺陷修补后所产生有机污染物；S2、使用SC‑1清洗液进行掩模清洗，确保残留颗粒去除彻底；S3、使用去离子水再次清洗，以去除残留铵根离子等掩模表面可能存在的残留颗粒；S4、最后使用氮气和异丙醇将掩模上残留去离子水吹净吹干即可。本发明采用臭氧水去除光刻胶等有机物，配合SC‑1加超声波震荡清洗的方式即可达到清洗目的，又可避免硫酸根离子所带来之雾状缺陷，成本低，清洗效果好。
2023-11-20
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光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法.pdf
本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。
2023-11-26
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