玻璃基板清洗的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109731877A(43)申请公布日2019.05.10(21)申请号201910212734.9G05B11/42(2006.01)(22)申请日2019.03.20(71)申请人东旭（营口）光电显示有限公司地址115003辽宁省营口市沿海产业基地新城大街19号申请人东旭光电科技股份有限公司(72)发明人李青李赫然王演徐志恒(74)专利代理机构北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)11348代理人王伟锋刘铁生(51)Int.Cl.B08B11/04(2006.01)B08B3/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)F26B21/00(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图1页(54)发明名称玻璃基板清洗的方法(57)摘要本发明公开了一种玻璃基板清洗的方法，涉及玻璃基板生产技术领域。本发明的主要技术方案为：一种玻璃基板清洗的方法，包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。所述方法解决了因玻璃基板长时间在风刀设备中停留而导致的玻璃基板质量问题。CN109731877ACN109731877A权利要求书1/2页1.一种玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述方法应用于玻璃基板清洗系统，所述玻璃基板清洗系统包括：依次连接的喷淋清洗设备、风刀设备、颗粒检查设备、翻转设备、检查设备、包装设备；所述喷淋清洗设备用于对玻璃基板进行清洗；所述风刀设备用于对喷淋清洗后的所述玻璃基板进行风干；所述颗粒检查设备用于检测风干后的所述玻璃基板表面的污染物；所述翻转设备用于将平置的所述玻璃基板翻转成立置；所述检查设备用于检查所述玻璃基板的表面缺陷和内部缺陷；所述包装设备用于将清洗后的所述玻璃基板打包；处理设备，所述处理设备用于控制所述玻璃基板清洗系统的工作；所述方法包括：采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据，并将所述堵片情况数据传输给所述处理器；所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式，调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数；所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。2.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，实时采集所述堵片情况数据；所述调控系数根据实时的所述堵片情况数据动态调节；所述处理设备根据动态调节的所述调控系数实时控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。3.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述堵片情况数据包括：检查设备堵片与否数据C1、翻转设备堵片与否数据C2、颗粒检查设备堵片与否数据C3；检查设备堵片超时数据T1、翻转设备堵片超时数据T2、颗粒检查设备堵片超时数据T3；包装设备待机时间数据T4、检查设备检查速度增幅数据N1。4.根据权利要求3所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述检查设备堵片与否数据C1由所述检查设备单片检查时间t1与预设检查时间对比获得；所述翻转设备堵片与否数据C2由所述翻转设备单片翻转间隔时间t2与预设的翻转间隔时间对比获得；所述颗粒检查设备堵片与否数据C3由所述颗粒检查设备单片检查间隔时间t3与预设的检查间隔时间对比获得；所述检查设备堵片超时数据T1、所述翻转设备堵片超时数据T2以及所述颗粒检查设备堵片超时数据T3，均由所述检查设备单片检查时间t1与预设检查时间做差获得；所述包装设备待机时间数据T4为在第一预设条件下，通过所述颗粒检查设备单片检查间隔时间t3与预设的包装设备待机时间做差获得；所述检查设备检查速度增幅数据N1为在第二预设条件下，通过公式获得；其中，所述t为预设增幅时间。5.根据权利要求4所述的玻璃基板清洗的方法，其特征在于，所述调控系数包括：比例系数Kp、积分系数Ki、微分系数Kd；2CN109731877A权利要求书2/2页所述调控系数通过所述预设运算方式调节的方式为：所述比例系数Kp通过所述检查设备堵片与否数据C1、所述翻转设备堵片与否数据C2、所述颗粒检查设备堵片与否数据C3的叠加，判断调整预设百分比；所述积分系数Ki依照函数公式进行调节；其中，所述Ki′为当前积分系数，所述a1、所述a2和所述a3为调节系数，所述b为预设常数；所述微分系数Kd由所述检查设备检查速度增幅数据N1/2取整或取半整数获得，且当所述包装设备待机时间数据T4大于预设等待极限数值时，所述微分系数Kd的数值需加上常数b