清洗剂及玻璃基板的清洗方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103562366103562366A(43)申请公布日2014.02.05(21)申请号201280022749.5代理人冯雅(22)申请日2012.05.24(51)Int.Cl.(30)优先权数据C11D1/44(2006.01)2011-1153532011.05.24JPB08B3/02(2006.01)B08B3/08(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C03C23/00(2006.01)2013.11.11C11D3/34(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C11D3/36(2006.01)PCT/JP2012/0633602012.05.24C11D3/37(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据G02F1/13(2006.01)WO2012/161270JA2012.11.29G02F1/1333(2006.01)(71)申请人旭硝子株式会社地址日本东京申请人帕卡股份有限公司(72)发明人榎本久男佐原幸治金子爱子石川智章横山哲史前柳佳孝田中明(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100权权利要求书1页利要求书1页说明书12页说明书12页附图1页附图1页(54)发明名称清洗剂及玻璃基板的清洗方法(57)摘要本发明涉及清洗剂和玻璃基板的清洗方法。在不损害用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板的平坦性的情况下，将残留、附着于表面上的研磨磨粒分散、除去。该清洗剂是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的、包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。玻璃基板的清洗方法包括：使用含有氧化铈的研磨剂对玻璃基板进行研磨的研磨工序，以及利用上述清洗剂对该研磨工序后的该玻璃基板进行清洗的清洗工序。CN103562366ACN103562ACN103562366A权利要求书1/1页1.清洗剂，它是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的清洗剂，其特征在于，该清洗剂是包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。2.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，相对于所述(A)有机膦酸、所述(B)多元羧酸盐、所述(C)芳族磺酸和所述(D)胺－环氧烷加成物的总量，包含0.01～50质量％的所述(A)有机膦酸、0.01～10质量％的所述(B)多元羧酸盐、0.01～50质量％的所述(C)芳族磺酸、0.02～10质量％的所述(D)胺－环氧烷加成物。3.如权利要求1或2所述的清洗剂，其特征在于，所述(A)有机膦酸是具有以式-P(=O)(OH)2表示的基团结合于碳原子的结构的有机化合物。4.如权利要求1～3中任一项所述的清洗剂，其特征在于，所述(D)胺－环氧烷加成物是亚烷基二胺的环氧丙烷-环氧乙烷加成物。5.如权利要求1～4中任一项所述的清洗剂，其特征在于，包含所述(A)有机膦酸、所述(B)多元羧酸盐、所述(C)芳族磺酸、所述(D)胺－环氧烷加成物和水，且相对于所述(A)至(D)的各成分及水的总量，含有55～98质量％的水。6.玻璃基板的清洗方法，其特征在于，包括：使用含有氧化铈的研磨剂对玻璃基板进行研磨的研磨工序；以及利用权利要求1～5中任一项所述的清洗剂对该研磨工序后的该玻璃基板进行清洗的清洗工序。7.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述研磨剂包含以氧化铈为主成分且含有稀土类元素的研磨磨粒。8.如权利要求6或7所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述清洗工序中，以单片式的方式清洗所述玻璃基板。9.如权利要求6～8中任一项所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，使用用水将所述清洗剂稀释而得的稀释清洗液，对所述研磨工序后的该玻璃基板进行清洗。10.如权利要求6～9中任一项所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述清洗工序中，对于连续地搬运的所述玻璃基板的两面，一边喷射所述清洗剂或所述稀释清洗液一边用刷子进行擦洗。2CN103562366A说明书1/12页清洗剂及玻璃基板的清洗方法技术领域[0001]本发明涉及用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的清洗剂、及玻璃基板的清洗方法。背景技术[0002]例如、液晶显示器(LCD)等FPD(FlatPanelDisplay)中所使用的玻璃基板通过称为浮法的制造方法将熔融玻璃成形为板状，将切割所得的玻璃基板用例如自转及公转的研磨工具研磨，除去表面的微小的凹凸及波纹，从而制造成具有满足了FPD用玻璃基板所要求的平坦度的规定厚度(例如、0.4～1.1mm)的薄板状(例如、参照专利文献1)。[0003]为了研磨这种玻璃基板，使用以氧化铈