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基板清洗设备以及基板清洗方法.pdf
2023-11-15
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相关资料
基板清洗设备以及基板清洗方法.pdf
本发明公开了一种基板清洗设备以及基板清洗方法，该基板清洗设备包含有一机座、一传输装置、一湿式清洁组及一干式清洁组，其中湿式清洁组与干式清洁组分别具有连续性无尘布条，利用传输装置夹掣与移动一基板，令基板可相对湿式清洁组与干式清洁组的擦拭组，供分别以无尘布条进行基板表面的喷湿擦拭及擦拭，从而能迅速且有效的去除表面附着的污染物，另外，本发明可进行两阶段清洁，其能在喷湿清洁后擦干水分，因此不会残留清洁水痕，有助于提升清洁质量。
2023-11-15
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基板清洗方法、基板清洗规程作成方法以及基板清洗规程作成装置.pdf
提供一种基板清洗方法，清洗在表面具有氧化膜的基板。该方法包含：部分蚀刻步骤，将所述氧化膜蚀刻至预定的膜厚为止；以及物理清洗步骤，在所述部分蚀刻步骤之后，对所述基板的表面执行物理清洗。所述氧化膜亦可为颗粒至少部分被带入的自然氧化膜。在此情况下，所述部分蚀刻步骤亦可为使所述颗粒自所述自然氧化膜露出、或使自所述自然氧化膜露出的露出部分增加的步骤。此外，所述物理清洗亦可为一边使所述自然氧化膜残留于所述基板的表面一边通过物理的作用去除自所述自然氧化膜露出的颗粒的步骤。
2023-11-15
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基板清洗方法以及基板清洗装置.pdf
本发明涉及基板清洗方法及装置，该方法包括：处理液供给工序，向基板的上表面供给包含溶质及具有挥发性的溶媒的处理液；成膜工序，从供给处理液使溶媒至少一部分挥发，使处理液固化或硬化，在上表面形成颗粒保持层；除去工序，向上表面供给剥离液，剥离并除去颗粒保持层。颗粒保持层所含的溶质成分的性质为，在加热至变质温度以上前相对于剥离液具有不溶性，加热至变质温度以上会发生变质，相对于剥离液具有可溶性。成膜工序包括加热工序，将处理液加热至小于变质温度的温度，形成颗粒保持层。还包括残渣除去工序，向除去工序后的上表面供给残渣除去
2023-11-15
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清洗液、清洗设备以及安装基板的清洗方法.pdf
本发明提供一种清洗液、清洗设备以及安装基板的清洗方法，即使是无铅焊料等新型焊料也能够进行高品质清洗。利用清洗液(2)清洗安装基板(10)。清洗液(2)是在包含酮或芳香族类的烃类溶剂中含有有机胺类、且在该溶剂中添加了不饱和羧酸酐化合物或羧酸酐而得到的药液。有机胺类包含作为仲或叔胺的二乙醇胺或三甲胺等中的至少大于或等于一种。即，清洗液(2)包含脱水的不饱和羧酸化合物(松香酸酐、新松香酸酐等)或脱水的二羧酸(蚁酸、醋酸酐、戊酸酐等)中的至少大于或等于一种。胺成分小于或等于羧酸类的当量。
2023-06-14
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基板清洗装置和基板清洗方法.pdf
本发明提供一种基板清洗装置和基板清洗方法，在使用处理气体进行基板的处理后适当地将残留于基板的气体成分去除。基板的清洗装置具有：气化部，其构成为输出水蒸气；第一加热部，其构成为将氮气加热至第一温度；第二加热部，其构成为将氮气加热至第二温度，所述第二温度比所述第一温度高；以及至少一个清洗腔室，其与所述气化部、所述第一加热部以及所述第二加热部连接，所述清洗腔室构成为在大气压下使至少一个基板暴露在水蒸气、具有所述第一温度的氮气或具有所述第二温度的氮气中。
2023-11-09
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