一种大尺寸硅圆片清洗装置及其清洗工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110369371A(43)申请公布日2019.10.25(21)申请号201910664212.2F26B21/00(2006.01)(22)申请日2019.07.23H01L21/02(2006.01)H01L21/67(2006.01)(71)申请人天津中环领先材料技术有限公司地址300384天津市滨海新区华苑产业园区（环外）海泰东路12号(72)发明人裴坤羽武卫刘建伟由佰玲刘园(74)专利代理机构天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)12213代理人栾志超(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B3/12(2006.01)B08B1/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称一种大尺寸硅圆片清洗装置及其清洗工艺(57)摘要本发明提供一种大尺寸硅圆片清洗装置，位于硅圆片上下两侧的刷洗单元，包括对位设置的上毛刷组和下毛刷组，刷洗单元用于刷洗硅圆片表面残留砂浆，上毛刷组和下毛刷组同向旋转并带动所述硅圆片转动；位于硅圆片两侧的喷淋单元，置于第一毛刷外侧且位于硅圆片内缘，用于向硅圆片提供喷淋液；位于硅圆片出口方向一侧与硅圆片并行设置的吹气单元，其气流方向与硅圆片水平移动方向相反且倾斜设置，用于吹干硅圆片；置于硅圆片下方的传送单元和置于硅圆片外缘的定位单元。本发明还提供一种大尺寸硅圆片清洗装置的清洗工艺。本发明清洗装置适用于大尺寸硅圆片，结构合理，操作简单，清洗效果好，缩短清洗时间，环保且安全。CN110369371ACN110369371A权利要求书1/2页1.一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，包括：刷洗单元：位于硅圆片上下两侧，包括对位设置的上毛刷组和下毛刷组，所述刷洗单元用于刷洗所述硅圆片表面残留砂浆，所述上毛刷组和所述下毛刷组同向旋转并带动所述硅圆片转动；喷淋单元：位于所述硅圆片上下两侧，所述单元的喷口方向均指向所述刷洗单元位置，用于向所述硅圆片提供喷淋液；吹气单元：位于所述硅圆片出口方向一侧与所述硅圆片并行设置，所述吹气单元气流方向与所述硅圆片水平移动方向相反且倾斜设置，所述吹气单元用于吹干所述硅圆片；传送单元：置于所述硅圆片下方，用于放置所述硅圆片并移动传输所述硅圆片；定位单元：置于所述硅圆片外缘，用于固定所述硅圆片位置；控制单元：外接移动终端，用于控制所述刷洗单元、所述喷淋单元、所述定位单元、所述传送单元、所述吹气单元和所述硅圆片的工作状态；其中，所述上毛刷组包括第一毛刷和第二毛刷，所述下毛刷组包括第三毛刷和第四毛刷，所述第一毛刷与所述第三毛刷对位设置，所述第二毛刷与所述第四毛刷对位设置；所述第一毛刷到所述第二毛刷中心距离不大于所述硅圆片半径；所述第一毛刷和所述第二毛刷的轴线与所述硅圆片移动方向垂直。2.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述第一毛刷远离所述硅圆片圆心设置。3.根据权利要求1所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述第一毛刷与所述硅圆片同心设置。4.根据权利要求1-3任一项所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述第二毛刷圆心位于所述硅圆片内缘；所述第一毛刷和所述第二毛刷同轴设置且位于所述硅圆片中心线上。5.根据权利要求4所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述喷淋单元包括上喷淋组和下喷淋组，所述上喷淋组喷口位置与所述上毛刷组下端面位置高度相同，所述下喷淋组喷口位置高于所述下毛刷组上端面位置。6.根据权利要求1-3、5任一项所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述吹气单元包括对称设置在所述硅圆片两侧的上吹刀和下吹刀，所述上吹刀刀口长度与所述下吹刀刀口长度均大于所述硅圆片直径。7.根据权利要求6所述的一种大尺寸硅圆片清洗装置，其特征在于，所述上吹刀气流方向与所述硅圆片上端面夹角和所述下吹刀气流方向与所述硅圆片下端面夹角相同，所述夹角角度为30-60°。8.一种大尺寸硅圆片清洗装置的清洗工艺，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的清洗装置，具体包括：S1：刷洗所述硅圆片；S11：单个所述硅圆片以50-70mm/s的速度经所述传送单元传送至所述刷洗单元区，并通过所述定位单元固定放置；S12：所述刷洗单元中上毛刷组和下毛刷组同向以300-500rpm的转速转动并带动所述硅圆片同向自转，所述喷淋单元同步进行喷洒清洗液，喷淋速度为5-8L/min，喷淋时间为2CN110369371A权利要求书2/2页10-15s；S2：吹干所述硅圆片；S21：清洗后所述硅圆片以40-60mm/s的水平速度向前移动进入吹气单元内，所述上吹刀和所述下吹刀同步以15-30NL/min的气流速度分别对所述硅圆片