气相沉积冷却装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110387531A(43)申请公布日2019.10.29(21)申请号201810350546.8(22)申请日2018.04.18(71)申请人北京创昱科技有限公司地址102209北京市昌平区北七家镇宏福创业园15号(72)发明人蒲春(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002代理人王莹吴欢燕(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称气相沉积冷却装置(57)摘要本发明涉及气相沉积技术领域，公开了一种气相沉积冷却装置，包括：冷却液注入机构和升降装置；冷却液注入机构包括：注液部件和进液管；注液部件设置在真空沉积区内，当载体停留在真空沉积区内时，注液部件在升降装置的驱动下上下移动插入载体内部的冷却液容纳区内，注入冷却液；所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通，以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液；进液管从外部伸入真空沉积区内并与注液部件连通，以便于从外部通过注液部件向冷却液容纳区内注入冷却液。本发明的气相沉积冷却装置能够实现在线气相沉积装置中基片的冷却散热，结构简单、操作方便，散热效率高。CN110387531ACN110387531A权利要求书1/1页1.一种气相沉积冷却装置，应用于在线式气相沉积装置上，所述在线式气相沉积装置包括：真空沉积区和载体；所述载体可携带基片运动至所述真空沉积区内进行薄膜沉积，其特征在于，包括：冷却液注入机构和升降装置；所述冷却液注入机构包括：注液部件和进液管；所述注液部件设置在所述真空沉积区内，当所述载体停留在所述真空沉积区内时，所述注液部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内，注入冷却液；所述进液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述注液部件连通，以便于从外部通过所述注液部件向所述冷却液容纳区内注入冷却液。2.如权利要求1所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，还包括：出水部件和出液管；所述注液部件设置在所述载体的一侧，所述出水部件设置在所述载体的另一侧；所述出水部件设置在所述真空沉积区内，当所述载体停留在所述真空沉积区内时，所述出水部件在所述升降装置的驱动下上下移动插入所述载体内部的冷却液容纳区内，以使冷却液流出所述载体；所述出液管从外部伸入所述真空沉积区内并与所述出水部件连通，以便于将所述冷却液容纳区内的冷却液通过出水部件流出。3.如权利要求2所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述注液部件和/或出水部件包括：插头；所述载体设有与所述冷却液容纳区连通的液体进口和/或液体出口，所述载体位于所述液体进口和/或液体出口处设有套管；当所述载体停留在所述真空沉积区内时，所述注液部件和/或出水部件的插头在所述升降装置的驱动下与所述注液部件和/或出水部件的套管相互套合。4.如权利要求3所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述载体的液体进口和/或液体出口通过橡胶薄膜封堵。5.如权利要求2所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，还包括：冷却液供应装置、供气装置和三通阀门；所述进液管、冷却液供应装置和供气装置分别通过三通阀门连通。6.如权利要求2所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述进液管和/或出液管为软管。7.如权利要求2-6任一项所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述升降装置包括：升降杆和密封套；所述升降杆的顶部伸入所述真空沉积区内并可上下移动；所述密封套套设在所述升降杆上与所述真空沉积区衔接密封。8.如权利要求7所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述升降装置还包括：升降板，所述升降板设置在所述升降杆的顶部，所述注液部件和/或出水部件固定在所述升降板上。9.如权利要求7所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述密封套为弹性密封套。10.如权利要求8所述的气相沉积冷却装置，其特征在于，所述密封套为波纹管，所述波纹管的第一端封堵，所述波纹管的第二端与所述真空沉积区连通；所述升降杆的底部与所述波纹管的第一端连接，随所述波纹管上下移动；所述注液部件和/或出水部件固定在所述升降板上。2CN110387531A说明书1/5页气相沉积冷却装置技术领域[0001]本发明涉及气相沉积技术领域，特别是涉及一种气相沉积冷却装置。背景技术[0002]物理气相沉积(PVD)是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程，其作用是能使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能，常应用于半导体和太阳能领域中。[0003]物理气相沉积常采用的方法为：真空蒸发、溅射和离子镀等。以上几种气相沉积方法均是采用溅射阴极或