具有扰流结构的光罩盒.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111830782A(43)申请公布日2020.10.27(21)申请号201911141711.X(22)申请日2019.11.20(30)优先权数据1081132422019.04.16TW(71)申请人家登精密工业股份有限公司地址中国台湾新北市(72)发明人庄家和薛新民林书弘邱铭乾(74)专利代理机构北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙)11276代理人刘云贵(51)Int.Cl.G03F1/66(2012.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称具有扰流结构的光罩盒(57)摘要本发明公开一种具有扰流结构的光罩盒，包括本体及盖体，本体的中央区域有光罩置放区，盖体盖合于本体，盖体的边缘区域与本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合，凹部及凸部搭配形成环绕光罩置放区的扰流结构，其中扰流结构包括在凹部及凸部之间的扰流通道，且本体在形成扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁，以形成集尘空间。借由本发明的具有扰流结构的光罩盒，当气流挟带的尘粒自外部进入扰流通道，尘粒将被滞留于集尘空间中，因而有效阻拦尘粒进入光罩置放区。CN111830782ACN111830782A权利要求书1/1页1.一种具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述具有扰流结构的光罩盒包括：本体，所述本体的中央区域有光罩置放区；以及；盖体，盖合于所述本体，所述盖体的边缘区域与所述本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合，所述凹部及所述凸部搭配形成环绕所述光罩置放区的扰流结构，其中所述扰流结构包括在所述凹部及所述凸部之间的扰流通道，且所述本体在形成所述扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁，以形成集尘空间。2.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部设置于所述本体，所述凸部设置于盖体，所述凹部的一侧具有内缩的侧壁。3.根据权利要求2所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部的两侧皆具有内缩的侧壁。4.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部设置于所述盖体，所述凸部设置于本体，所述凸部的一侧具有内缩的侧壁。5.根据权利要求4所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的两侧皆具有内缩的侧壁。6.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的截面为矩形。7.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的截面为圆弧形。8.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述内缩的侧壁具有锐角。9.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述内缩的侧壁具有圆角。2CN111830782A说明书1/3页具有扰流结构的光罩盒技术领域[0001]本发明涉及一种光罩盒，更特别的是涉及一种具有扰流结构的光罩盒。背景技术[0002]先进微影制程中，特别是EUV(极紫外光)微影制程，对制程环境的洁净度要求极高。若有尘粒(particle)污染光罩，则会造成微影制程的缺陷。为达到洁净度与保护光罩的需求，一般使用光罩盒以阻拦外界的尘粒。而传统的光罩盒在微污染控制上依赖光罩盒上下盖的密合的气密程度，一旦气密失效，尘粒就极容易进入光罩盒中污染光罩。发明内容[0003]本发明的目的在于解决公知光罩盒的种种问题，提出一种具有扰流结构的光罩盒。[0004]为达上述目的及其他目的，本发明提出一种具有扰流结构的光罩盒，包含：本体，该本体的中央区域有光罩置放区；以及盖体，盖合于该本体，该盖体的边缘区域与该本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合，该凹部及该凸部搭配形成环绕该光罩置放区的扰流结构，其中该扰流结构包括在该凹部及该凸部之间的扰流通道，且该本体在形成该扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁，以形成集尘空间。[0005]可选地，该凹部设置于该本体，该凸部设置于盖体，该凹部的一侧具有内缩的侧壁。[0006]可选地，该凹部的两侧皆具有内缩的侧壁。[0007]可选地，该凹部设置于该盖体，该凸部设置于本体，该凸部的一侧具有内缩的侧壁。[0008]可选地，该凸部的两侧皆具有内缩的侧壁。[0009]可选地，该凸部的截面为矩形。[0010]可选地，该凸部的截面为圆弧形。[0011]可选地，该内缩的侧壁具有锐角。[0012]可选地，该内缩的侧壁具有圆角。[0013]借此，本发明的具有扰流结构的光罩盒具有扰流通道，有效地延长气体流通路径，使得气体挟带的尘粒到达光罩置放区的可能性大为降低。除此之外，本体在形成扰流通道的表面上具有至少一个内缩的侧壁，当气流挟带的尘粒进入内缩的侧壁中，将更难以沿着内缩的侧壁爬升，因而使得尘粒被滞留于扰流通道中，更进一步阻拦尘粒进入光罩置放区。[0014]为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关发明的详细说明与