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提供一种曝光装置,该曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动,一边对所述基板进行曝光,其特征在于,具有利用来自光源的光对所述原版的被照明面进行照明的照明光学系统,所述照明光学系统包括:第1遮光部,配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧离开的位置;第2遮光部,配置于从所述共轭面向所述被照明面侧离开的位置;以及遮蔽部,配置于所述第1遮光部与所述第2遮光部之间,划定所述被照明面的照明范围,沿着所述照明光学系统的光轴的方向上的所述共轭面与所述第1遮光部之间的第1距离以及沿着所述光轴的方向上的所述共轭面与所述第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下,所述第1遮光部以及所述第2遮光部被配置成所述第1距离和所述第2距离不同。