

用于制造层叠体和层叠膜的方法以及层叠体和层叠膜.pdf
念珊****写意
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层叠膜、包含前述层叠膜的结构体、半导体元件和电子设备以及前述层叠膜的制造方法.pdf
提供无裂纹的层叠膜和包含该层叠膜的结构体。该层叠膜包含缓冲层和配置在前述缓冲层之上的至少1层的氮化镓系膜。另外,层叠膜整体的压缩应力为?2.0GPa以上且5.0GPa以下。
层叠体、偏振膜以及偏振膜的制造方法.pdf
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本发明提供一种组合物,其包含化合物(A)、化合物(B)和化合物(C),化合物(A)具有包含选自伯氮原子和仲氮原子中的至少1个的阳离子性官能团以及Si‑O键,化合物(B)具有3个以上的‑C(=O)OX基(X为氢原子或碳原子数1以上6以下的烷基),所述‑C(=O)OX基中,1个以上6个以下为‑C(=O)OH基,化合物(C)具有环结构以及与所述环结构直接结合的1个以上的伯氮原子,在化合物(A)所含的伯氮原子和仲氮原子与化合物(C)所含的伯氮原子的合计中,化合物(A)所含的伯氮原子和仲氮原子所占的比例为3摩尔%~
层叠体的制造方法及层叠体.pdf
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