层叠体、偏振膜以及偏振膜的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104602912A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.05.06(21)申请号201380041597.8代理人高旭轶刘力(22)申请日2013.07.29(51)Int.Cl.B32B27/30(2006.01)(30)优先权数据2012-1740812012.08.06JPB29C55/04(2006.01)2012-1740802012.08.06JPG02B5/30(2006.01)G02F1/1335(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B29K29/00(2006.01)2015.02.05B29L7/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据B29L9/00(2006.01)PCT/JP2013/0704312013.07.29B29L11/00(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2014/024712JA2014.02.13(71)申请人株式会社可乐丽地址日本冈山县仓敷市酒津１６２１番地(72)发明人高藤胜启矶崎孝德(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001权利要求书1页说明书22页(54)发明名称层叠体、偏振膜以及偏振膜的制造方法(57)摘要本发明提供即使不预先进行不溶化处理，在与水接触的工序中也能够抑制PVA的溶出、能够使用通用的偏振膜制造设备简便地制造偏振性能优异的偏振膜的层叠体，以及使用了其的偏振膜的制造方法、以及偏振性能优异且交叉尼科尔状态（crossednicholstate）下的红色光泄露少的偏振膜及其制造方法。具有热塑性树脂膜层和溶胀度为180%以上且260%以下的PVA层的层叠体、以及包括对该层叠体进行拉伸的工序的偏振膜的制造方法、以及双折射率为45×10-3以上的基体上吸附有双色性色素的偏振膜、以及包括将具有热塑性树脂膜层与PVA层的层叠体拉伸至5.7倍以上的工序的偏振膜的制造方法，该制造方法中，PVA层所含的PVA的平均聚合度为2,800以上且9,500以下。CN104602912ACN104602912A权利要求书1/1页1.层叠体，其具有热塑性树脂膜层和溶胀度为180%以上且260%以下的聚乙烯醇层。2.权利要求1所述的层叠体，其中，聚乙烯醇层所含的聚乙烯醇的乙烯含量为1摩尔%以上且12摩尔%以下。3.权利要求1或2所述的层叠体，其中，聚乙烯醇层所含的聚乙烯醇的1,2-二醇键量为0.4摩尔%以上且1.5摩尔%以下。4.权利要求1~3中任一项所述的层叠体，其中，聚乙烯醇层所含的聚乙烯醇的平均聚合度为1,000以上且9,500以下。5.权利要求1~4中任一项所述的层叠体，其中，聚乙烯醇层所含的聚乙烯醇的皂化度为98摩尔%以上。6.权利要求1~5中任一项所述的层叠体，其中，聚乙烯醇层包含相对于聚乙烯醇100质量份为1质量份以上且15质量份以下的增塑剂。7.权利要求6所述的层叠体，其中，增塑剂为甘油。8.偏振膜的制造方法，其包括对权利要求1~7中任一项所述的层叠体进行拉伸的工序。9.权利要求8所述的制造方法，其包括使双色性色素接触如下层中的任一层的工序，所述层为：拉伸前的层叠体的聚乙烯醇层；存在于层叠体的拉伸过程中的拉伸途中的聚乙烯醇层；以及由对层叠体进行拉伸后的聚乙烯醇层形成的拉伸膜层。10.权利要求9所述的制造方法，其不包括在接触双色性色素的工序之前接触包含硼化合物的水溶液的工序。11.权利要求9或10所述的制造方法，其不包括在接触双色性色素的工序之前以95℃以上的温度进行拉伸的工序。12.偏振膜，其中，在双折射率为45×10-3以上的基体上吸附有双色性色素。13.权利要求12所述的偏振膜，其中，基体包含聚乙烯醇，其平均聚合度为2,800以上且9,500以下。14.权利要求12所述的偏振膜，其中，基体包含聚乙烯醇，其平均聚合度为4,100以上且9,500以下。15.权利要求12~14中任一项所述的偏振膜，其厚度为10μm以下。16.偏振膜的制造方法，其包括将具有热塑性树脂膜层和聚乙烯醇层的层叠体拉伸至5.7倍以上的工序，该制造方法中，聚乙烯醇层所含的聚乙烯醇的平均聚合度为2,800以上且9,500以下。17.权利要求16所述的制造方法，其中，聚乙烯醇的平均聚合度为4,100以上且9,500以下。18.权利要求16或17所述的制造方法，其中，聚乙烯醇层包含相对于聚乙烯醇100质量份为1质量份以上且15质量份以下的增塑剂。19.权利要求16或17所述的制造方法，其中，聚乙烯醇层包含相对于聚乙烯醇100质量份为4质量份以上且12质量份以下的增塑剂。20.权利要求18或19所述的制造方法，其中，增塑剂为甘油。2CN10460291