用于处理基板的装置和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112216631A(43)申请公布日2021.01.12(21)申请号202010659864.X(22)申请日2020.07.09(30)优先权数据10-2019-00835702019.07.11KR(71)申请人细美事有限公司地址韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号(72)发明人尹堵铉朴舟楫朴真世(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274代理人车今智(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)G03F7/30(2006.01)权利要求书2页说明书13页附图16页(54)发明名称用于处理基板的装置和方法(57)摘要本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：光处理腔室，其具有内部空间；支承单元，其支承所述内部空间中的所述基板；以及照射单元，其将光照射到所述内部空间中的所述基板以去除残留在所述基板上的有机物，其中，所述照射单元包括：第一光源，其将第一光照射到所述基板；以及第二光源，其将第二光照射到所述基板，所述第二光与所述第一光具有不同的波长范围。CN112216631ACN112216631A权利要求书1/2页1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：光处理腔室，其具有内部空间；支承单元，其配置为支承所述内部空间中的所述基板；以及照射单元，其配置为将光照射到所述内部空间中的所述基板以去除残留在所述基板上的有机物，其中，所述照射单元包括：第一光源，其配置为将第一光照射到所述基板；以及第二光源，其配置为将第二光照射到所述基板，所述第二光与所述第一光具有不同的波长范围。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述照射单元还包括第三光源，所述第三光源配置为将第三光照射到所述基板，所述第三光与所述第一光和所述第二光具有不同的波长范围，其中，所述第一光源是闪光灯，其中，所述第二光源是红外灯和紫外灯中的一种，并且其中，所述第三光源是所述红外灯和所述紫外灯中的另一种。3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一光源是闪光灯、红外灯和紫外灯中的一种，并且其中，所述第二光源是所述闪光灯、所述红外灯和所述紫外灯中的另一种。4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述第一光源是所述闪光灯，并且其中，所述第二光源是所述红外灯和所述紫外灯中的一种。5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，所述照射单元还包括反射器，所述反射器配置为将由所述照射单元照射的所述光朝向支承在所述支承单元上的所述基板的表面反射。6.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，所述照射单元还包括第一冷却管线，冷却流体通过所述第一冷却管线循环以降低包括在所述照射单元中的光源的温度。7.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，所述装置还包括：超临界腔室，其配置为通过将超临界流体供应到所述基板来处理所述基板；传送单元，其配置为在所述超临界腔室和所述光处理腔室之间传送所述基板；以及控制器，并且其中，所述控制器控制所述超临界腔室、所述传送单元和所述光处理腔室，使得在所述超临界腔室中处理所述基板，并且将在所述超临界腔室中处理的所述基板传送到所述光处理腔室。8.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，所述装置还包括：液体处理腔室，其配置为通过将有机溶剂分配到所述基板上来处理所述基板；传送单元，其配置为在所述液体处理腔室和所述光处理腔室之间传送所述基板；以及控制器，并且其中，所述控制器控制所述液体处理腔室、所述传送单元和所述光处理腔室，使得在所述液体处理腔室中处理所述基板，并且将在所述液体处理腔室中处理的所述基板传送到所述光处理腔室。2CN112216631A权利要求书2/2页9.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，所述装置还包括：索引模块，其具有装载端口，载体安装在所述装载端口上，所述载体具有接收在其中的所述基板；以及工艺模块，其与所述索引模块连接并配置为处理所述基板，并且其中，所述光处理腔室设置在所述索引模块处。10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述光处理腔室安装在所述装载端口上。11.根据权利要求9所述的装置，其中，所述索引模块包括：前面板，所述装载端口安装在所述前面板上；后面板，其设置成与所述前面板相对；以及侧面板，所述侧面板配置为当从上方观察时连接所述前面板和所述后面板，并且其中，所述光处理腔室安装在所述侧面板上。12.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，配置为照射所述光的光源具有条形状，并且其中，所述光源交替地设置在所述支承单元上方。13.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中，配置为照射所述光的光源具有块形状，并且其中，所述光源布置在横向方向和/或纵向方向上。14.根据权利要求13所述的装置，其中，所述照射单