用于涂布基板的方法及涂布机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112575301A(43)申请公布日2021.03.30(21)申请号202011084003.X(22)申请日2016.04.21(62)分案原申请数据201680084352.72016.04.21(71)申请人应用材料公司地址美国加利福尼亚州(72)发明人朴炫灿任东吉格奥尔·曼克托马斯·格比利(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国赵静(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)C23C14/54(2006.01)C23C14/08(2006.01)权利要求书2页说明书12页附图7页(54)发明名称用于涂布基板的方法及涂布机(57)摘要提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括：旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置，平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21)；以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者：提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地改变的角速度。CN112575301ACN112575301A权利要求书1/2页1.一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，所述至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，所述三个或更多个可旋转靶各包括位于其中的磁体组件(25)，所述方法包括：‑旋转所述磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置，所述平面(22)从所述基板(100)垂直地延伸至所述三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21)；以及‑在涂布期间使所述基板的位置摆动或摇摆。2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：‑根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者：提供至所述三个或更多个可旋转靶(20)的功率、所述磁体组件(25)的停留时间、以及所述磁体组件(25)的持续地改变的角速度。3.如权利要求2所述的方法，其中提供至所述三个或更多个可旋转靶(20)的所述功率和下述的一者根据所述函数改变：所述磁体组件(25)的所述停留时间及所述磁体组件(25)的持续地改变的所述角速度。4.如权利要求2所述的方法，进一步包括：‑从所述数据库或所述存储器读取用于下述的至少一者的所述函数：提供至所述三个或更多个可旋转靶(20)的功率的变化、所述磁体组件(25)的所述停留时间的变化、以及所述磁体组件(25)的所述角速度的持续变化。5.如权利要求2所述的方法，其中所述函数包括多项式函数或者其中所述函数包括三角函数。6.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的定向是垂直的。7.如权利要求2所述的方法，其中所述函数包括对称函数或非对称函数。8.如权利要求2至7的任一项所述的方法，其中所述函数决定在所述多个不同的角位置处溅射于所述基板(100)上的材料的量。9.如权利要求2至7的任一项所述的方法，其中所述函数用于在所述基板(100)上溅射均匀层。10.如权利要求2至7的任一项所述的方法，其中所述数据库包括查找表。11.如权利要求8所述的方法，其中所述函数是取决于所述角位置的函数，或者其中所述函数是取决于所述三个或更多个可旋转靶(20)的个别可旋转靶(20)的函数。12.如权利要求1至7的任一项所述的方法，其中所述磁体组件(25)以大于零的角速度旋转至所述多个不同的角位置。13.如权利要求2至7的任一项所述的方法，其中所述函数包括用于改变所述停留时间的离散函数。14.如权利要求13所述的方法，其中所述三个或更多个可旋转靶(20)根据所述离散函数以逐步方式旋转至所述多个不同的角位置。15.如权利要求2至7的任一项所述的方法，其中提供至所述三个或更多个可旋转靶的所述功率越高，所述磁体组件的所述角位置的角度α越高，并且在较小绝对值的所述角度α的所述停留时间低于在较大绝对值的所述角度α的所述停留时间。16.一种用于使用如权利要求1至7的任一项所述的方法涂布基板的涂布机。2CN112575301A权利要求书2/2页17.一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法，所述至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20)，所述三个或更多个可旋转靶各包括位于其中的磁体组件(25)，所述方法包括：‑旋转所述磁体组件(25)至相对于平面(22)的多于四个不同的角位置，所述平面(22)从所述基板(100)垂直地延伸至所述三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21