

用于在涂布机中支撑基板的具有竖直网格的载体.pdf
新槐****公主
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相关资料
用于在涂布机中支撑基板的具有竖直网格的载体.pdf
本文的各种实施例涉及用于在一个或多个基板通过处理设备时支撑所述基板的载体。在许多情况下,所述基板以竖直方式定向。所述载体可包括框架和将玻璃固定到所述框架的竖直支撑杆。所述载体可不具有水平支撑杆。所述载体可允许所述基板的热膨胀和收缩,而不需要在相邻的基板对之间提供精确的间隙。本文描述的所述载体基本上降低了所述处理设备和基板断裂的风险,从而实现更有效的处理。本文的某些实施例涉及将基板装载到载体上的方法。
用于涂布基板的方法及涂布机.pdf
提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法,至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20),三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括:旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置,平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21);以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者:提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地
用于涂布基板的方法及涂布机.pdf
提供一种用于利用至少一个阴极组件(10)涂布基板(100)的方法,至少一个阴极组件(10)具有三个或更多个可旋转靶(20),三个或更多个可旋转靶(20)各包括位于其中的磁体组件(25)。所述方法包括:旋转磁体组件(25)至相对于平面(22)的多个不同的角位置,平面(22)从基板(100)垂直地延伸至三个或更多个可旋转靶(20)的相应可旋转靶的轴(21);以及根据储存于数据库或存储器中的函数改变下述的至少一者:提供至三个或更多个可旋转靶(20)的功率、磁体组件(25)的停留时间、以及磁体组件(25)的持续地
具有改善的RF返回的基板支撑件.pdf
本文提供一种用于处理基板的设备。在一些实施方式中,基板支撑件包括具有支撑表面的主体;设置在主体中并靠近支撑表面的RF电极,以接收来自RF源的RF电流;用于支撑主体的轴;具有内部空间且延伸通过轴的导电元件,其中所述导电元件耦接至RF电极;以及RF垫片;其中所述导电元件包含啮合RF垫片以将RF电流返回到接地的特征。
具有内部通道的半导体基板支撑件.pdf
一种示例性基板支撑组件可包括限定基板支撑表面的静电夹盘主体。支撑组件可包括与静电夹盘主体耦合的支撑杆。支撑组件可包括电极,所述电极靠近基板支撑表面嵌入在静电夹盘主体内。支撑组件可包括嵌入在静电夹盘主体内的接地电极。支撑组件可包括形成在电极与接地电极之间的静电夹盘主体内的一个或多个通道。