显示装置、显示面板及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112713176A(43)申请公布日2021.04.27(21)申请号202011551007.4(22)申请日2020.12.24(71)申请人昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市玉山镇晨丰路188号3号房(72)发明人张振宇顾维杰张民冯彦贵蔡勤山郭志林张福爽达仕勋(74)专利代理机构北京华进京联知识产权代理有限公司11606代理人方晓燕(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)H01L51/56(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图3页(54)发明名称显示装置、显示面板及其制备方法(57)摘要本发明提供了一种显示面板，包括依次设置的衬底基板、发光功能层与阴极层；所述发光功能层包括多个发光单元与像素定义层，所述多个发光单元排布于所述衬底基板上，且各所述发光单元通过所述像素定义层隔离开，所述像素定义层的材质为透明材质；所述阴极层包括刻蚀去除区与刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内。通过将阴极层设置有刻蚀去除区，使得刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内，减少了光线穿过阴极层时的光线损失，提高环境光透过率。CN112713176ACN112713176A权利要求书1/2页1.一种显示面板，其特征在于，包括依次设置的衬底基板、发光功能层与阴极层；所述发光功能层包括多个发光单元与像素定义层，所述多个发光单元排布于所述衬底基板上，且各所述发光单元通过所述像素定义层隔离开，所述像素定义层的材质为透明材质；所述阴极层包括刻蚀去除区与刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述发光功能层与所述阴极层之间还包括无机层，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述无机层在所述衬底基板上的投影内。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述刻蚀保留区部分搭接于所述无机层上。4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述无机层远离所述衬底基板的一侧还包括胶层，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述胶层在所述衬底基板上的投影内；所述刻蚀保留区部分搭接于所述胶层上。5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1‑4任一项所述的显示面板，以及位于所述显示面板背面的感光元件，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影与所述感光元件在所述衬底基板上的投影重合。6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上制备发光功能层，所述发光功能层包括多个发光单元与像素定义层，所述多个发光单元排布于所述衬底基板上，且各所述发光单元通过所述像素定义层隔离开，所述像素定义层的材质为透明材质；在所述发光功能层上制备阴极层；刻蚀去除部分所述阴极层，所述阴极层形成刻蚀去除区与刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内。7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述发光功能层上制备阴极层之前，还包括：在所述发光功能层上制备无机层；图形化去除部分所述无机层，使图形化后的无机层在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合。8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述发光功能层上制备无机层之后还包括：在所述无机层上涂覆第一光刻胶，所述第一光刻胶在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合；通过曝光显影工艺去除部分所述无机层，使图形化后的无机层在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合。9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，图形化去除部分所述无机层后，所述制备方法还包括：2CN112713176A权利要求书2/2页在所述无机层与所述第一光刻胶上制备整面的所述阴极层；在所述整面的阴极层上涂覆第二光刻胶，所述发光单元在所述衬底基板上的投影落入所述第二光刻胶在所述衬底基板上的投影内；通过曝光显影工艺去除部分所述阴极层，所述阴极层形成所述刻蚀去除区与所述刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内；所述阴极层的所述刻蚀保留区部分搭接于所述第一光刻胶上。10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：去除所述第二光刻胶；在所述阴极层上制备平坦化层；在所述平坦化层上制备封装层。3CN112713176A说明书1/5页显示装置、显示面板及其制备方法技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域，具体而言，