超薄玻璃掩膜板以及蒸镀方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113215530A(43)申请公布日2021.08.06(21)申请号202110649423.6(22)申请日2021.06.10(71)申请人蒋承忠地址浙江省嘉兴市嘉善县罗星街道晋阳西路627号瑞景嘉苑5栋3单元(72)发明人蒋承忠(74)专利代理机构上海隆天律师事务所31282代理人钟宗(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图6页(54)发明名称超薄玻璃掩膜板以及蒸镀方法(57)摘要本发明提供了超薄玻璃掩膜板以及蒸镀方法，其中，超薄玻璃掩膜板包括：一掩膜板骨架，其中的骨架合围形成若干个供掩膜安装的留空区域；以及若干超薄玻璃掩膜，分别固定于留空区域，每个超薄玻璃掩膜包括一超薄玻璃本体，基于预设蒸镀图案在超薄玻璃本体的唯一的基板区域沿厚度方向形成贯穿超薄玻璃本体的若干贯通孔，每个贯通孔的内壁与超薄玻璃本体的表面之间形成倒角，基板区域露出于留空区域，当进行蒸镀时，超薄玻璃掩膜的贯通孔供蒸镀介质通过超薄玻璃本体到达蒸镀对象。本发明能够通过超薄玻璃掩膜板替代传统金属掩膜，大大降低了掩膜的整体成本，并且，不需要张网步骤，提高了蒸镀的精度，也缩短了蒸镀工艺的总时长，提高了生产效率。CN113215530ACN113215530A权利要求书1/1页1.一种超薄玻璃掩膜板，其特征在于，包括：一掩膜板框架(5)，所述掩膜板框架(5)中的骨架(51)合围形成若干个供掩膜安装的留空区域(52)；以及若干超薄玻璃掩膜(1)，分别固定于所述留空区域(52)，每个所述超薄玻璃掩膜(1)包括一超薄玻璃本体，基于预设蒸镀图案在所述超薄玻璃本体的唯一的基板区域(11)沿厚度方向形成贯穿所述超薄玻璃本体的若干贯通孔(13)，每个所述贯通孔(13)的内壁与所述超薄玻璃本体的表面之间形成倒角(14)，所述基板区域(11)露出于所述留空区域(52)，当进行蒸镀时，所述超薄玻璃掩膜(1)的贯通孔(13)供蒸镀介质通过所述超薄玻璃本体到达蒸镀对象。2.根据权利要求1所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述超薄玻璃掩膜(1)的边沿与所述留空区域(52)的边沿通过粘贴连接。3.根据权利要求1所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述超薄玻璃掩膜(1)的边沿与所述留空区域(52)的边沿通过激光焊接。4.根据权利要求1所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，在所述基板区域(11)通过激光、刻蚀或者钻孔形成若干贯通孔(13)。5.根据权利要求3所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述超薄玻璃本体至少一侧的边沿形成应力消散边缘(12)，所述应力消散边缘(12)与所述贯通孔(13)基于同一次刻蚀获得。6.根据权利要求5所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述超薄玻璃本体的厚度为10微米至50微米。7.根据权利要求6所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述应力消散边缘(12)环绕所述超薄玻璃本体的边沿，所述应力消散边缘(12)的宽度为5um至300um。8.根据权利要求1所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，在所述超薄玻璃本体的上下表面中的至少一侧设有功能层，所述功能层包括层叠设置高分子补强层、防爆膜、磁性材料层以及防脱膜中的至少一种。9.根据权利要求8所述的超薄玻璃掩膜板，其特征在于，所述高分子补强层的组分包括亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸‑1,4‑环己二甲酯。10.一种蒸镀方法，其特征在于，采用如权利要求1所述的超薄玻璃掩膜板，包括以下步骤：提供一蒸镀源(6)；在所述蒸镀源(6)上方设置所述超薄玻璃掩膜板；在所述超薄玻璃掩膜板的上方设置蒸镀对象；以及加热所述蒸镀源(6)，使得蒸镀介质通过所述超薄玻璃掩膜(1)的贯通孔(13)到达蒸镀对象。2CN113215530A说明书1/5页超薄玻璃掩膜板以及蒸镀方法技术领域[0001]本发明涉及蒸镀工艺中的设备领域，具体地说，涉及超薄玻璃掩膜板以及蒸镀方法。背景技术[0002]有机发光二极管(OrganicLight‑EmittingDiode，OLED具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，在中小尺寸显示领域更有取代液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)的趋势，现阶段中小尺寸的OLED面板大多依赖蒸镀制程，其中在蒸镀制程中用于图形定义的治具为金属掩模版，可分为精密金属掩膜板(FineMetalMask，FMM)和通用金属掩模版(CommonMetalMask，CMM)。FMM用于RGB像素定义，主要用于R、G、B发光层和掺杂材料蒸镀，CMM主要作为共通层图形定义装置。[