阵列基板，显示面板，显示装置及阵列基板的制作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113917749A(43)申请公布日2022.01.11(21)申请号202111211901.1(22)申请日2021.10.18(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人南京京东方显示技术有限公司(72)发明人周丽霞徐阳蒋学兵(74)专利代理机构北京众达德权知识产权代理有限公司11570代理人梁凯(51)Int.Cl.G02F1/1362(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图3页(54)发明名称阵列基板，显示面板，显示装置及阵列基板的制作方法(57)摘要本发明公开了一种阵列基板，显示面板，显示装置及阵列基板的制作方法；其中阵列基板包括透明衬底基板，所述透明衬底基板的边框区域设置有光敏结构；所述光敏结构包括：依次设置于所述透明衬底基板上的第一导体层，第一绝缘层和光敏材料层；所述第一导体层上设置有通孔，所述通孔位于所述光敏材料层在所述第一导体层上的正投影区域；所述光敏材料层的一侧通过第二导体层与阵列基板的有源层导通，另一侧通过第三导体层与透明彩膜基板的背镀导电膜导通。本发明的阵列基板构建了从面内到面外的残留电荷释放路径，能够有效地消散面内的残留电荷，解决了液晶显示面板因面内残留电荷产生的画面抖动和漂移问题。CN113917749ACN113917749A权利要求书1/1页1.一种阵列基板，其特征在于，包括：透明衬底基板，所述透明衬底基板的边框区域设置有光敏结构；所述光敏结构包括：依次设置于所述透明衬底基板上的第一导体层，第一绝缘层和光敏材料层；所述第一导体层上设置有通孔，所述通孔位于所述光敏材料层在所述第一导体层上的正投影区域；所述光敏材料层的一侧通过第二导体层与阵列基板的有源层导通，另一侧通过第三导体层与透明彩膜基板的背镀导电膜导通。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明衬底基板的边框区域设置有液晶盒测试探点，所述液晶盒测试探点包括第四导体层，所述第二导体层通过所述第四导体层导通所述有源层。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述液晶盒测试探点还包括：设置于所述透明衬底基板上的第五导体层；位于所述第四导体层与所述第五导体层之间的第二绝缘层。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述液晶盒测试探点还包括：依次设置在所述第四导体层上的第三绝缘层和第一导电膜。5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透明衬底基板的边框区域设置有涂布触点，所述第三导体层通过所述涂布触点与所述背镀导电膜导通。6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述涂布触点为银浆触点。7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，还包括第二导电膜，所述第三导体层通过所述第二导电膜与所述银浆触点导通。8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述光敏材料层为铟镓锌氧化物层。9.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述通孔的横截面形状为以下形状中的任意一种：圆形，椭圆形，环形，多边形和十字形。10.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在透明衬底基板上形成第一导体层，所述第一导体层上设置有通孔；在所述第一导体层上形成第一绝缘层；在所述第一绝缘层上形成光敏材料层；在所述光敏材料层上的一侧形成第二导体层，在所述光敏材料层上的另一侧形成第三导体层；其中，所述光敏材料层通过所述第二导体层与所述阵列基板的有源层导通，通过所述第三导体层与透明彩膜基板的背镀导电膜导通；所述通孔位于所述光敏材料层在所述第一导体层上的正投影区域。11.一种显示面板，其特征在于，包括：上述权利要求1‑9中任一所述的阵列基板。12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求11所述的显示面板。2CN113917749A说明书1/7页阵列基板，显示面板，显示装置及阵列基板的制作方法技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板，显示面板，显示装置及阵列基板的制作方法。背景技术[0002]目前液晶面板，尤其是基于边缘场开关技术的氧化物FFS产品由于截止电压Ioff较低，容易产生残留电荷累积；电荷主要存在于面板内部，其残留电荷发生时间、位置均无法监测。残留电荷的存在会导致造成液晶显示面板产生画面抖动和Flicker漂移问题。对于面内残留电荷的问题，目前主要采用的方案是对面板进行高温烘烤，但电荷消散效果不佳；也有相关技术采用：在衬底上形成抗蚀剂层，以及在抗蚀剂层上涂覆导电聚合物或金属络合物以形成电荷消散层的方法，但此方法存在的问题是随着使用液晶面板的使用，抗蚀剂层发生损耗，电荷消散层会腐蚀TFT基板，造成液晶显示面板寿命下降。[0003]因此，目前现有技术无法有效地消除液晶面板内的残留电荷。发明内容[0004