

阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置.pdf
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阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置.pdf
本申请适用于显示技术领域,提供了一种阵列基板、制作方法和显示面板,该阵列基板包括第一衬底基板、公共电极线、色阻层和平坦层,色阻层包括相邻的第一色阻块和第二色阻块,第一色阻块和所述第二色阻之间形成位于公共电极线上的色阻沟槽,避免第一色阻块和第二色阻块在公共电极线上方交叠,公共电极线的宽度较小,有利于保证该阵列基板具有高的开口率;此外,该阵列基板还包括平坦层,其填充部填充于色阻沟槽内;能够减小甚至消除色阻沟槽,相邻的第一色阻块和第二色阻块之间较为平坦,当在色阻层上以沉积并蚀刻的方式形成像素电极层时,可避免透明
一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置.pdf
本发明提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置,该方法包括:形成平坦化层;在平坦化层上形成透明导电氧化物层和金属层;在金属层上涂布光刻胶,并对光刻胶进行构图,形成光刻胶全保留区、光刻胶半保留区和光刻胶全去除区;刻蚀掉光刻胶全去除区内的金属层;采用灰化工艺,去除光刻胶半保留区内的全部光刻胶以及光刻胶全保留区域的部分光刻胶;刻蚀掉光刻胶全去除区内的透明导电氧化物层,形成透明导电氧化物层图形;刻蚀掉光刻胶半保留区内的金属层,形成金属层图形;剥离光刻胶全保留区内的光刻胶。本发明中,在进行灰化工艺之前,并不湿
阵列基板和包括阵列基板的显示装置.pdf
本发明公开了阵列基板和包括阵列基板的显示装置。阵列基板包括基板、基板上方的屏蔽金属和薄膜晶体管,该薄膜晶体管包括在屏蔽金属上方的具有沟道区域的有源层、以及在屏蔽金属、有源层和阵列基板中的至少一个中的热梯度部分,以使沟道区域的第一区域的温度低于沟道区域的第二区域的温度。在沟道区域与屏蔽金属之间的冷却带由热梯度部分限定。包括限定薄膜晶体管与屏蔽金属之间的冷却带的热梯度部分的阵列基板和包括该阵列基板的显示装置可以改善扭结效应、维持高驱动电压、增加导通电流和/或改善开关特性。
阵列基板,显示面板,显示装置及阵列基板的制作方法.pdf
本发明公开了一种阵列基板,显示面板,显示装置及阵列基板的制作方法;其中阵列基板包括透明衬底基板,所述透明衬底基板的边框区域设置有光敏结构;所述光敏结构包括:依次设置于所述透明衬底基板上的第一导体层,第一绝缘层和光敏材料层;所述第一导体层上设置有通孔,所述通孔位于所述光敏材料层在所述第一导体层上的正投影区域;所述光敏材料层的一侧通过第二导体层与阵列基板的有源层导通,另一侧通过第三导体层与透明彩膜基板的背镀导电膜导通。本发明的阵列基板构建了从面内到面外的残留电荷释放路径,能够有效地消散面内的残留电荷,解决了液
阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置.pdf
本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置,对形成在平坦化层上的光刻胶层进行图案化处理,使薄膜晶体管漏极上方的部分第一通孔内没有光刻胶层、第一通孔的其它部分保留部分光刻胶层、色阻层上方的光刻胶层完全保留;在后续对钝化层进行干刻处理时,由于第一通孔的其它部分仅保留部分光刻胶层,相对现有技术中第一通孔的其它部分完全保留的光刻胶层较薄,本发明有利于在干刻钝化层时形成较好的干刻角度;另外本发明色阻层上方的光刻胶层厚度相对现有技术中色阻层上方的光刻胶层厚度较厚,在对钝化层进行干刻时,可以防止对