基片处理系统和基片处理方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114446820A(43)申请公布日2022.05.06(21)申请号202111254312.1(22)申请日2021.10.27(30)优先权数据2020-1836402020.11.02JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人绫部刚(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322专利代理师龙淳王昊(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/677(2006.01)权利要求书2页说明书13页附图10页(54)发明名称基片处理系统和基片处理方法(57)摘要本发明提供即使在处理单元中发生了异常的情况下，也能够减少废弃的基片的数量的技术。本发明的一个方式的基片处理系统包括：能够对基片实施同种的处理的多个处理单元；对多个处理单元进行基片的输送的输送装置；以及控制多个处理单元和输送装置的控制部。此外，控制部具有救济处理部、输送处理部和再救济处理部。救济处理部对在发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片，在异常处理单元中进行救济处理。输送处理部在异常处理单元中不能对滞留基片进行救济处理的情况下，基于预先设定的输送模式，将滞留基片从异常处理单元输送到另一处理单元。再救济处理部对被输送到另一处理单元的滞留基片再次进行救济处理。CN114446820ACN114446820A权利要求书1/2页1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：能够对基片实施同种的处理的多个处理单元；对多个所述处理单元进行所述基片的输送的输送装置；和控制多个所述处理单元和所述输送装置的控制部，所述控制部具有：救济处理部，其对在发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片，在所述异常处理单元中进行救济处理；输送处理部，其在所述异常处理单元中不能对所述滞留基片进行救济处理的情况下，基于预先设定的输送模式，将所述滞留基片从所述异常处理单元输送到另一所述处理单元；和再救济处理部，其对被输送到另一所述处理单元的所述滞留基片再次进行救济处理。2.如权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于：在所述输送模式中，包含与多个所述处理单元全部正常时实施的多个所述基片的输送顺序不同的输送顺序。3.如权利要求1或2所述的基片处理系统，其特征在于：所述控制部还具有选择部，所述选择部从输送顺序各自不同的多个所述输送模式中，选择供所述输送处理部实施的一个所述输送模式。4.如权利要求3所述的基片处理系统，其特征在于：所述选择部基于在所述异常处理单元中发生的异常的种类，从多个所述输送模式中选择一个所述输送模式。5.如权利要求4所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：检查装置，其检查处理后的所述基片的处理状态；和将检查信息、输送模式信息、异常信息和方案信息相关联地存储的存储部，其中，所述检查信息与在所述检查装置中进行了检查的所述滞留基片的处理状态有关，所述输送模式信息与将所述滞留基片输送到另一所述处理单元时的所述输送模式有关，所述异常信息与在所述异常处理单元中发生的异常的种类有关，所述方案信息与所述滞留基片的处理相关的方案有关。6.如权利要求5所述的基片处理系统，其特征在于：所述选择部基于存储于所述存储部的所述检查信息、所述输送模式信息、所述异常信息和所述方案信息，从多个所述输送模式中选择一个所述输送模式。7.如权利要求1～6中任一项所述的基片处理系统，其特征在于：还包括清洗所述输送装置的清洗装置，所述输送处理部在由所述输送装置将所述滞留基片从所述异常处理单元刚刚输送到另一所述处理单元后，在所述清洗装置中清洗所述输送装置。8.一种基片处理方法，其特征在于，包括：救济工序，其对于在能够对基片实施同种的处理的多个处理单元中、发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片，在所述异常处理单元中进行救济处理；输送工序，其在所述异常处理单元中不能对所述滞留基片进行救济处理的情况下，基于预先设定的输送模式，将所述滞留基片从所述异常处理单元输送到另一所述处理单元；2CN114446820A权利要求书2/2页和再救济工序，其对被输送到另一所述处理单元的所述滞留基片再次进行救济处理。3CN114446820A说明书1/13页基片处理系统和基片处理方法技术领域[0001]本发明的实施方式涉及基片处理系统和基片处理方法。背景技术[0002]一直以来，已知有在处理半导体晶片(以下，也称为晶片。)等基片的基片处理装置中，使所处理的基片的成品率提高的技术(参照专利文献1)。[0003]现有技术文献[0004]专利文献[0005]专利文献1：日本特开2009‑148734号公報发明内容[0006]发明要解决的技术问题[0007]本发明提供即使在处理单元中发生了异常的情况下，也能够减少废弃的基片的数量的技术。