感光干膜抗蚀剂层压体和线路板.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114815508A(43)申请公布日2022.07.29(21)申请号202210757464.1(22)申请日2022.06.30(71)申请人杭州福斯特应用材料股份有限公司地址311300浙江省杭州市临安区锦北街道福斯特街8号(72)发明人朱薛妍李伟杰韩传龙傅明陈涛(74)专利代理机构杭州钤韬知识产权代理事务所(普通合伙)33329专利代理师安佳伟赵杰香(51)Int.Cl.G03F7/09(2006.01)H05K3/06(2006.01)权利要求书1页说明书12页附图2页(54)发明名称感光干膜抗蚀剂层压体和线路板(57)摘要本发明属于电子材料技术领域。本发明公开了一种感光干膜抗蚀剂层压体，其包括：支撑层，包括第一面和第二面；抗蚀剂层，设于支撑层的第一面，抗蚀剂层包括抗蚀剂；第一面与抗蚀剂层之间具有第一剥离强度，第二面与抗蚀剂层之间具有第二剥离强度，第一剥离强度大于第二剥离强度；支撑层满足，第二面与抗蚀剂层剥离后，第二面上抗蚀剂的残留量小于等于0.01wt%。本发明采用不包含保护层的感光干膜抗蚀剂层压体，解决了保护层缺陷引起的抗蚀剂层质量问题，并且可以降低成本，缩减覆盖保护层工艺；本发明对支撑层远离抗蚀剂层的一面进行改性，使感光干膜抗蚀剂层压体进行收卷时抗蚀剂层不会发生粘连损坏，轻易地将抗蚀剂层从卷中释放开进行贴膜。CN114815508ACN114815508A权利要求书1/1页1.一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于，包括：支撑层，包括第一面和第二面；抗蚀剂层，设于所述支撑层的所述第一面，所述抗蚀剂层包括抗蚀剂；所述第一面与所述抗蚀剂层之间具有第一剥离强度，所述第二面与所述抗蚀剂层之间具有第二剥离强度，所述第一剥离强度大于所述第二剥离强度；所述支撑层满足以下条件：取两个尺寸为1m×0.8m的所述支撑层记为支撑层A和支撑层B，所述支撑层A的所述第一面上以250cm/min的涂布速度均匀涂布所述抗蚀剂，所述抗蚀剂烘干后形成38μm厚的所述抗蚀剂层；所述支撑层B的第二面与所述抗蚀剂层相对并在65℃温度和0.4mPa压力下贴合形成“支撑层A+抗蚀剂层+支撑层B”的组合体，将所述组合体在温度23℃相对湿度55%的无尘室中静置1h；在温度为23℃、剥离角度为180°和剥离速度为1.0m/min的条件下将所述支撑层B剥离，所述支撑层B的所述第二面上的所述抗蚀剂的残留量小于等于0.01wt%；其中，所述抗蚀剂的残留量由以下公式计算而得，残留量=w1/w2×100%，w1为完全剥离后支撑层B第二面上残留的抗蚀剂的质量，w2为烘干后抗蚀剂的总质量。2.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述第一剥离强度与所述第二剥离强度之间的比值为大于等于1.5且小于等于22。3.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述第一剥离强度为大于等于30mN/cm且小于等于170mN/cm，所述第二剥离强度为大于等于5mN/cm且小于等于60mN/cm。4.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述第一面具有第一水接触角，所述第二面具有第二水接触角；所述第一水接触角小于等于所述第二水接触角。5.根据权利要求4所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述第二水接触角为大于等于90°且小于等于130°。6.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述第二面包括疏水改性化合物，所述疏水改性化合物包括硅酮系脱模剂或醇酸树脂系脱模剂中的至少一种，所述硅酮系脱模剂包括硅油型离型剂、聚乙烯醇接枝聚硅氧烷聚合物或二氧化硅溶胶中的至少一种。7.根据权利要求6所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：在所述第二面上设置所述疏水改性化合物前，所述第二面为等离子体处理面。8.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述支撑层的透光率大于等于80%。9.根据权利要求1所述的一种感光干膜抗蚀剂层压体，其特征在于：所述支撑层包括PET膜、PC膜或PAR膜中的一种。10.一种线路板，其特征在于：所述线路板制备过程中使用了如权利要求1至9任一所述的感光干膜抗蚀剂层压体。2CN114815508A说明书1/12页感光干膜抗蚀剂层压体和线路板技术领域[0001]本发明涉及电子材料技术领域，尤其是涉及一种感光干膜抗蚀剂层压体和线路板。背景技术[0002]在印刷线路板的生产过程中，必不可少地需要使用到感光干膜抗蚀剂。传统感光干膜抗蚀剂的结构可由下而上分为三层，分别为支撑层、抗蚀剂层和保护层。[0003]保护层与抗蚀剂层的结合力充分小于支撑层与抗蚀剂层的结合力，从而可以确保保护层可以容易地剥离，同时支撑层和抗蚀剂层粘结良好、保护层表