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干膜抗蚀剂和感光干膜.pdf

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本发明提供了一种干膜抗蚀剂和感光干膜。该干膜抗蚀剂:45～60重量份的碱可溶性树脂、35～50重量份的光聚合单体、2.5～5重量份光引发剂、0.05～0.5重量份光敏剂,碱可溶性树脂中含有芳香族基团的单体占碱可溶性树脂总量的40%以上,光聚合单体包括具有结构式I所示结构的化合物,式中,R1选自氢原子、甲基、羟甲基、乙基;X为C2H4或C3H6,m1为0～5的整数;R2各自独立的选自氢原子、甲基。应用本发明的技术方案,采用了特定的光聚合单体,其在激光照射后抗蚀层可以获得充分的三维网状交联结构,使干膜抗蚀剂在显影过程中具有较短的残足,有助于导体线路的尺寸稳定性。