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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114854418A(43)申请公布日2022.08.05(21)申请号202210315796.4B82Y30/00(2011.01)(22)申请日2022.03.28B82Y40/00(2011.01)C09K11/02(2006.01)(71)申请人北京京东方技术开发有限公司H01L27/32(2006.01)地址100176北京市大兴区北京经济技术开发区地泽路9号1幢407室申请人京东方科技集团股份有限公司(72)发明人张晓远张宜驰李卓(74)专利代理机构北京金信知识产权代理有限公司11225专利代理师崔家源(51)Int.Cl.C09K11/88(2006.01)C09K11/60(2006.01)C09K11/56(2006.01)B82Y20/00(2011.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称量子点混合物、图案化的方法、量子点膜及发光器件(57)摘要本公开实施例提供了一种量子点混合物、图案化的方法、量子点膜及发光器件,至少包括:预定颜色量子点和纳米微胶囊,其中,纳米微胶囊的囊皮内包含有荧光猝灭剂,纳米微胶囊的囊皮被配置为在光照下破裂释放荧光猝灭剂,荧光猝灭剂用于对预定颜色量子点进行荧光猝灭处理。通过使用本公开实施例的量子点混合物,可以根据需求的不同对不同颜色量子点进行有针对性的荧光猝灭处理,在采用量子点混合物加工发光器件时,存在的量子点残留为荧光猝灭处理后的量子点,全彩发光器件也不会再发生混色问题,提升了产品性能。CN114854418ACN114854418A权利要求书1/2页1.一种量子点混合物,其特征在于,至少包括:预定颜色量子点和纳米微胶囊,其中,所述纳米微胶囊的囊皮内包含有荧光猝灭剂,所述纳米微胶囊的囊皮被配置为在光照下破裂释放所述荧光猝灭剂,所述荧光猝灭剂用于对所述预定颜色量子点进行荧光猝灭处理。2.如权利要求1所述的量子点混合物,其特征在于,所述预定颜色量子点包括量子点本体和与所述量子点本体进行配位作用的配体,所述配体至少包括第一光敏基团,所述第一光敏基团被配置为与所述第一光敏基团发生第一光交联反应。3.如权利要求2所述的量子点混合物,其特征在于,所述预定颜色量子点的所述配体至少包括以下之一:含有碳碳双键的烯烃化合物、含有碳碳三键的炔烃化合物、含有叠氮基团的化合物、含有巯基的化合物。4.如权利要求2所述的量子点混合物,其特征在于,所述纳米微胶囊的囊皮表面具有可发生光交联反应的第二光敏基团,所述第二光敏基团被配置为与所述第一光敏基团发生第二光交联反应、与所述第二光敏基团发生第三光交联反应。5.如权利要求4所述的量子点混合物,其特征在于,所述第二光敏基团至少包括以下之一:碳碳双键、碳碳三键、叠氮基团、巯基。6.如权利要求4所述的量子点混合物,其特征在于,所述第一光敏基团与所述第二光敏基团的数量混合比例范围为1:1至1:2。7.如权利要求1所述的量子点混合物,其特征在于,所述纳米微胶囊尺寸小于或等于30nm。8.如权利要求1至7中任一项所述的量子点混合物,其特征在于,所述纳米微胶囊的材料至少包括以下之一:偶氮苯、羧甲基纤维素、甲基丙烯酸甲酯、氰基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚乙烯吡啶、聚邻硝基苯、透明质酸;所述荧光猝灭剂至少包括以下之一:无机离子化合物、金属氧化物。9.一种量子点图案化的方法,其特征在于,至少包括:在第一界面层上沉积第一发光层,其中,所述第一发光层的材料为至少包括预定颜色量子点和纳米微胶囊的量子点混合物,所述纳米微胶囊的囊皮内包含有荧光猝灭剂,所述预定荧光猝灭剂用于对所述预定颜色量子点进行荧光猝灭处理;对目标发光区域之外的其它发光区域采用第一波长进行曝光处理,以使所述纳米微胶囊的囊皮发生破裂释放出的所述荧光猝灭剂对所述其它发光区域的所述预定颜色量子点进行荧光猝灭处理。10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,在对所述目标发光区域之外的其它发光区域采用第一波长进行曝光处理之前,还包括:对所述目标发光区域采用第二波长进行曝光处理,以发生光交联反应,所述光交联反应至少包括以下之一:所述预定颜色量子点发生第一光交联反应,所述预定颜色量子点与所述纳米微胶囊发生第二光交联反应,所述纳米微胶囊发生第三光交联反应;其中,所述第二波长与所述第一波长不同;所述预定颜色量子点包括量子点本体和与所述量子点本体进行配位作用的配体,所述配体至少包括第一光敏基团,所述第一光敏基2CN114854418A权利要求书2/2页团被配置为与所述第一光敏基团发生所述第一光交联反应;所述纳米微胶囊的囊皮表面具有可发生光交联反应的第二光敏基团,所述第二光敏基团被配置为与所述第一光敏基团发生所述第二光交联反应、与所述第二光敏基团发生所述第三光交联反应。11.