缺陷检测装置及缺陷检测方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115541584A(43)申请公布日2022.12.30(21)申请号202110739531.2(22)申请日2021.06.30(71)申请人上海微电子装备（集团）股份有限公司地址201203上海市浦东新区张东路1525号(72)发明人林彬于大维张凯(74)专利代理机构上海思捷知识产权代理有限公司31295专利代理师郑星(51)Int.Cl.G01N21/88(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图4页(54)发明名称缺陷检测装置及缺陷检测方法(57)摘要本发明提供一种缺陷检测装置和缺陷检测方法。所述缺陷检测装置中，照明光学系统形成照射到基片上的激光光束且该激光光束被反射，当激光光束照射到残留物时，在残留物的上表面和下表面分别进行反射而形成相干光；成像系统对从基片反射的光进行成像，形成检测图像，其中，相干光成像后对应于检测图像中的干涉条纹，通过干涉条纹获得残留物的信息。利用上述装置可以降低残留物的检测难度，提高缺陷的检出率。所述缺陷检测方法中，形成照射到基片上的激光光束且激光光束被反射，对从基片反射的光进行成像形成检测图像，其中，通过检测图像中的干涉条纹获得残留物的信息。CN115541584ACN115541584A权利要求书1/2页1.一种缺陷检测装置，所述缺陷检测装置包括：照明光学系统，用于形成照射到基片上设定范围的激光光束，所述激光光束在基片表面被反射，其中，当所述激光光束照射到残留物时，在所述残留物的上表面和下表面分别进行反射而形成相干光；成像系统，用于对从所述基片反射的光进行成像，形成检测图像，其中，所述相干光经所述成像系统后对应于所述检测图像中的干涉条纹，通过所述干涉条纹获得所述残留物的信息。2.如权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明光学系统包括光源模块，所述光源模块用于提供至少一种波长的激光光束，每种波长的所述激光光束通过所述照明光学系统和所述成像系统后能够获得相应的检测图像。3.如权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述缺陷检测装置还包括：图像处理系统，用于将基于一种波长的激光光束照射所述基片获得的检测图像与缺陷检测模版比对，获得所述基片上是否存在所述残留物以及所述残留物的位置的信息。4.如权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述缺陷检测装置还包括：图像处理系统，用于获取基于不同波长的激光光束照射到同一所述基片上形成的至少两幅检测图像，并对所述至少两幅检测图像进行比对，获得所述基片上是否存在所述残留物以及所述残留物的位置的信息。5.如权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明光学系统包括：光束调整模块，用于接收所述光源模块发出的激光光束并对所述激光光束进行准直和扩束，再对扩束后的激光光束进行整形和匀光处理，并输出到一照明光阑处成像的激光光束。6.如权利要求5所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明光学系统和所述成像系统包括共用的分光模块和物镜模块；所述分光模块用于将从所述照明光阑出射的激光光束投射到所述物镜模块；所述物镜模块设置于所述基片上，用于将所述分光模块投射的激光光束处理为接近平行的光束，并照射到所述基片上，且接收所述基片反射的光束，并输出到一成像光阑处成像的激光光束。7.如权利要求6所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述成像系统包括：光学放大模块，用于对所述成像光阑处的像进行放大处理；以及图像采集模块，用于接收所述光学放大模块输出的光束并成像，形成所述检测图像。8.如权利要求6所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明光阑处的成像焦面与所述成像光阑处的成像焦面经所述分光模块共轭。9.如权利要求6所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述成像系统还包括：四分之一波片，设置在所述分光模块与所述物镜模块之间，用于调节所述物镜模块出射的激光光束的偏振角度。10.如权利要求5所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述照明光学系统还包括：半波片，位于所述光源模块和所述光束调整模块之间，用于调整所述光源模块输出的激光光束的偏振角度。11.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：2CN115541584A权利要求书2/2页形成照射到基片上设定范围的激光光束，所述激光光束在基片表面被反射，其中，当所述激光光束照射到残留物时，在所述残留物的上表面和下表面分别进行反射而形成相干光；对从所述基片反射的光进行成像，形成检测图像，其中，所述相干光成像后对应于所述检测图像中的干涉条纹，通过所述干涉条纹获得所述残留物的信息。12.如权利要求11所述的缺陷检测方法，其特征在于，获得基于一种波长的激光光束形成的检测图像，将所述检测图像与缺陷检测模版进行对比，获得所述基片上是否存在所述残留物以及所述残留物的位置的信息。13.如权利要求11所述的缺陷检