一种离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106746727A(43)申请公布日2017.05.31(21)申请号201611092796.3(22)申请日2016.11.30(71)申请人江苏奥蓝工程玻璃有限公司地址226011江苏省南通市港闸区通京大道370号(72)发明人黄林冲顾海波徐庆周京陈俊单志刚(74)专利代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204代理人柏尚春(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃及其制备方法，包括玻璃基片和镀膜层，透过率在60％左右，镀膜层采用扩散系数很低的氮化硅膜层作为保护层，并依次溅射相应厚度的金属镍铬层、金属银层、金属镍铬层、氮化硅层，有较好的稳定性，针孔密度非常低，磁控溅射沉积的氮化硅膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，保持了原有的热工性能。实现了离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃耐高温、高隔热，强阻隔红外线的性能，并实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工。CN106746727ACN106746727A权利要求书1/1页1.一种离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层(1)、第一金属镍铬层(2)、金属银层(3)、第二金属镍铬层(4)、第二氮化硅层(5)组成；所述第一氮化硅层(1)的厚度为35-45nm、所述第一金属镍铬层(2)的厚度为12-17nm、所述金属银层(3)的厚度为8-13nm、所述第二金属镍铬层(4)的厚度为12-17nm、所述第二氮化硅层(5)的厚度为55-65nm。2.根据权利要求1所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为3-15mm。3.根据权利要求2所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为6mm。4.根据权利要求1所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化硅层(1)的厚度为42nm、所述第一金属镍铬层(2)的厚度为15nm、所述金属银层(3)的厚度为13nm、所述第二金属镍铬层(4)的厚度为15nm、所述第二氮化硅层(5)的厚度为60nm。5.如权利要求1所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)选择3-15mm厚度的玻璃基片，按预定尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；(2)将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10-3Pa,线速度设置为3.5m/min；(3)将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射第一层厚度为35-45nm的第一氮化硅层(1)；(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-5KW，在玻璃基片上溅射第二层厚度为12-17nm的第一金属镍铬层(2)；(5)设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为3.5-4.5KW，在玻璃基片上溅射第三层厚度为8-13nm的金属银层(3)；(6)设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-5KW，在玻璃基片上溅射第四层厚度为12-17nm的第二金属镍铬层(4)；(7)设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为155-170KW，在玻璃基片上溅射第五层厚度为55-65nm的第二氮化硅层(5)；即得所需离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃。6.根据权利要求5所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中选择厚度为6mm的玻璃基片。7.根据权利要求5所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中在玻璃基片上溅射的第一氮化硅层(1)的厚度为42nm、步骤(4)中在玻璃基片上溅射的第一金属镍铬层(2)的厚度为15nm、步骤(5)中在玻璃基片上溅射的金属银层(3)的厚度为13nm、步骤(6)中在玻璃基片上溅射的第二金属镍铬层(4)的厚度为15nm、步骤(7)中在玻璃基片上溅射的第二氮化硅层(5)的厚度为60nm。8.根据权利要求6所述的离线可钢化六十透过率低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为110KW、步骤(4)设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3KW、步骤(5)中设置第三高真空磁控溅射镀膜设备的功率为4KW、步骤(6)中设置第四高真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3KW、步骤(7)中设置第五高真空磁控