一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109604232A(43)申请公布日2019.04.12(21)申请号201811634729.9(22)申请日2018.12.29(71)申请人苏州殷绿勒精密机械科技有限公司地址215131江苏省苏州市相城区望亭镇迎湖村中心南路3号(72)发明人何平(74)专利代理机构北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548代理人李静(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机(57)摘要本发明公开一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，包括第一清洗主体、回转机构、第二清洗主体、第二清洗主体底座、回转机构底座、旋转台、第一清洗主体底座、电气控制柜、上料车和传送带，所述第二清洗主体底座的一侧连接有回转机构底座，所述回转机构底座的一侧连接有第一清洗主体底座，所述第二清洗主体底座的顶部连接有第二清洗主体，所述回转机构底座的顶部安装有旋转台，所述旋转台的顶部安装有回转机构，所述回转机构底座的内部安装有驱动电机且驱动电机的动力输出端与回转机构相连接，本发明结构合理有效，且体积较大，对物料的清洗效率高，且清洗质量优良，适合较大体积的电镀设备的大批量清洗。CN109604232ACN109604232A权利要求书1/1页1.一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，包括第一清洗主体（1）、回转机构（3）、第二清洗主体（5）、第二清洗主体底座（6）、回转机构底座（7）、旋转台（8）、第一清洗主体底座（9）、电气控制柜（10）、上料车（13）和传送带（14），其特征在于：所述第二清洗主体底座（6）的一侧连接有回转机构底座（7），所述回转机构底座（7）的一侧连接有第一清洗主体底座（9），所述第二清洗主体底座（6）的顶部连接有第二清洗主体（5），所述回转机构底座（7）的顶部安装有旋转台（8），所述旋转台（8）的顶部安装有回转机构（3），所述回转机构底座（7）的内部安装有驱动电机且驱动电机的动力输出端与回转机构（3）相连接，所述第一清洗主体底座（9）的顶部连接有第一清洗主体（1），所述第一清洗主体底座（9）和第二清洗主体底座（6）的背面均设置有一个接水盘（11），所述回转机构底座（7）的背面设置有一个电气控制柜（10），所述第一清洗主体底座（9）的内部安装有水箱（17），水箱（17）的顶部安装有水泵（16），所述第一清洗主体（1）的内部两侧安装有与水泵（16）相连接的清洗喷头（15），所述第一清洗主体（1）的内部底部安装有清洗传送带（20），所述清洗传送带（20）的两端分别安装有一个提升电机（21），所述提升电机（21）的动力输出端安装有主动齿轮，所述第一清洗主体（1）的内部顶部安装有从动齿轮，且从动齿轮与主动齿轮之间通过链条（22）相连接，所述第二清洗主体底座（6）和第二清洗主体（5）的内部设置方式与第一清洗主体底座（9）和第一清洗主体（1）的内部设置方式相同，所述回转机构（3）的内部设置有传送带（14），所述第一清洗主体（1）的外部一侧下部表面安装有第一清洗主体人机界面（2），所述第二清洗主体（5）的外部一侧下部表面安装有第二清洗主体人机界面（4）。2.根据权利要求1所述的一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，其特征在于：所述上料车（13）的顶部表面上设置有进出料传送带，且进出料传送带与传送带（14）相配合。3.根据权利要求1所述的一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，其特征在于：所述回转机构（3）的顶部安装有清洗光源（19），所述第一清洗主体（1）和第二清洗主体（5）的背面上部表面分别安装有一个外接抽风机（18）。4.根据权利要求1所述的一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，其特征在于：所述接水盘（11）的顶部表面上安装有过滤器（12），且过滤器（12）设置为三个。2CN109604232A说明书1/4页一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机技术领域[0001]本发明涉及清洗机技术领域，具体为一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机。背景技术[0002]清洗机，用于电子零部件、光学玻璃、半导体、LCD等在制造、使用过程中去除污染物；也可以适用电子零部件、光学玻璃、半导体、LCD等生产治具的定期维护清洗，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证所生产产品的高性能、高可靠度和长寿命。[0003]双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机是清洗机的一种，现有的清洗机容易产生清洗效率降低，且清洗效果差的问题。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种双工位往复清洗式Mask掩膜板清洗机，旨在改善现有清洗机清洗效率降低，且清洗