用于包含有机半导体层的电子器件的电极.pdf
代瑶****zy
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用于包含有机半导体层的电子器件的电极.pdf
本申请涉及有机电子器件,所述电子器件包含多层电极以及有机半导体层,还涉及生产这样的有机电子器件的方法。
有机电子器件和包含所述有机电子器件的显示器件以及用于有机电子器件的组合物.pdf
本发明涉及一种包含半导体层的有机电子器件,所述半导体层包含异构化合物的混合物。
用于制造包含应力层的半导体器件结构的方法.pdf
本发明提供一种用于制造包含应力层的半导体器件结构的方法,包括:提供前端器件结构,该前端器件结构包括硅基衬底和形成在硅基衬底上的栅结构;在栅结构上形成具有图案的掩蔽层;以掩蔽层作为掩膜,蚀刻硅基衬底,以在硅基衬底的将要形成源/漏区的部分中形成凹槽;在凹槽中形成应力层;以及去除掩蔽层;其中,蚀刻形成凹槽的蚀刻源气体包含He与O2,且He与O2的流速比在蚀刻过程中是变化的。根据本发明的方法能够通过动态地调节蚀刻凹槽的源气体的流速比来改善蚀刻的均匀性,从而改善凹槽的剖面轮廓,进而提高半导体器件的整体电学性能。此外
包含式(1)化合物的有机电子器件、包含该有机电子器件的显示器件以及用于有机电子器件的式(1)化合物.pdf
本发明涉及一种包含半导体层的有机电子器件,所述半导体层包含式(1)的化合物。<base:Imagehe=@561@wi=@481@file=@DDA0003754872840000011.JPG@imgContent=@drawing@imgFormat=@JPEG@orientation=@portrait@inline=@no@/>
有机电子器件和用于掺杂有机半导体基质材料的掺杂剂.pdf
本发明提供了一种有机电子器件,其包含衬底、布置在衬底上的第一电极,布置在第一电极上的至少第一功能化有机层和布置在第一功能化有机层上的第二电极。所述第一功能化有机层包含基质材料以及基质材料的p-掺杂剂,其中p-掺杂剂包含含至少一个具有下式的配体L的铜配合物:其中E1和E2可以是相同或不同的且表示氧、硫、硒或NR’,其中R表示氢、或取代或未取代的支化、线性或环状的烃,其中R’表示氢、或取代或未取代的支化、线性或环状的烃。本发明进一步提供了一种用于掺杂有机半导体基质材料的多核铜配合物,其包含至少两个铜原子以及桥