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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102062884A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102062884A(43)申请公布日2011.05.18(21)申请号201010532461.5(22)申请日2010.11.01(71)申请人李明伟地址518106广东省深圳市公明马山头第四工业区62栋(72)发明人李明伟(74)专利代理机构深圳市君胜知识产权代理事务所44268代理人杨宏刘文求(51)Int.Cl.G02B5/02(2006.01)B32B27/08(2006.01)B32B3/30(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称扩散膜及其制造方法(57)摘要本发明公开了一种扩散膜及其制造方法,所述扩散膜的制造方法包括:选取一适当的滚轮本体;采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具;利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微雕处理,制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面;将滚轮本体装入UV涂布机上;在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层;在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层。本发明的扩散膜制造方法与传统的扩散膜的制造方法相比,具有不需要庞大的设备,制作工艺更易掌控,成品良率高的特点。所制作出的扩散膜具有优良的雾化扩散及高穿透效果,品质非常稳定,大幅降低了制作成本及节约资源。CN102684ACCNN110206288402062894A权利要求书1/1页1.一种扩散膜的制造方法,其特征在于,包括:选取一适当的滚轮本体;采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具;利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微雕处理,制得具有光学微结构的凹半球型粒径的轮面;将滚轮本体装入UV涂布机上;在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层;在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层。2.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法,其特征在于,所述在透明膜层的表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层包括:在透明膜层的表面上均匀涂上一层液态高折射率的光学级丙烯酸酯;复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体;进行紫外线干燥。3.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法,其特征在于,所述在透明膜层的另一表面上形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层包括:在透明膜层的另一表面上均匀涂上一层带有抗静电剂的液态高折射率的光学树脂;复制轮面的凹半球型粒径形状而形成凸半球型粒径的珠体;进行紫外线干燥。4.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法,其特征在于,在对滚轮本体的轮面进行微雕处理之前,还包括:采用CNC技术对滚轮本体作一次粗研磨及二次精研磨。5.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法,其特征在于,在形成具有凸半球型粒径的珠体的扩散层时,轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米,表面粗糙度Ra值是0.24至0.8微米。6.根据权利要求1所述的扩散膜的制造方法,其特征在于,在形成具有凸半球型粒径的珠体的抗静电层时,轮面上凹半球型粒径的直径是3至15微米,表面粗糙度Ra值是0.24至0.8微米或表面是150至400网目点。7.一种采用权利要求1所述的扩散膜的制造方法制造的扩散膜,其特征在于,包括透明膜层、扩散层、抗静电层,所述扩散层和抗静电层与透明膜层是一体设置的,并且扩散层和抗静电层是相对设置的。8.根据权利要求7所述的扩散膜,其特征在于,所述扩散层包括多个连续排列的凸半球型粒径的珠体。9.根据权利要求7所述的扩散膜,其特征在于,所述抗静电层包括多个稀散排列的凸半球型粒径的珠体。10.根据权利要求7所述的扩散膜,其特征在于,所述扩散层表面粗糙度Ra值是0.24至0.8微米或表面是150至300网目点。2CCNN110206288402062894A说明书1/3页扩散膜及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种扩散膜及其制造方法。背景技术[0002]扩散膜是液晶显示器中不可缺少的光学元件,在传统的扩散膜制作工艺中,通常用散射的颗粒状物混合于粘接剂中,在透明基膜上涂布混合的粘接剂而形成扩散膜。通常此类制作工艺需要庞大的涂布设备,制作工艺复杂不易掌控,成品良率低且成本高昂。发明内容[0003]本发明的目的是提供一种扩散膜的制造方法,旨在解决传统的制造方法工艺复杂且成本高的问题。[0004]同时也提供一种采用该制造方法制造的扩散膜。[0005]本发明的技术方案如下:[0006]一种扩散膜的制造方法,包括:[0007]选取一适当的滚轮本体;[0008]采用微雕切割技术制得所需规格的微米治具;[0009]利用微雕切割技术制得的微米治具在CNC技术操作下对滚轮本体的轮面进行微雕处理,制得具有光学微结构