光扩散膜的制造方法和光扩散膜.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103946728103946728A(43)申请公布日2014.07.23(21)申请号201280057503.1(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限(22)申请日2012.12.20公司11227代理人金世煜苗堃(30)优先权数据2012-0089852012.01.19JP(51)Int.Cl.G02B5/02(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B32B7/02(2006.01)2014.05.22G02B5/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G02F1/1335(2006.01)PCT/JP2012/0830072012.12.20G09F9/00(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/108539JA2013.07.25(71)申请人琳得科株式会社地址日本东京都(72)发明人草间健太郎大类知生富冈健太所司悟权权利要求书1页利要求书1页说明书32页说明书32页附图23页附图23页(54)发明名称光扩散膜的制造方法和光扩散膜(57)摘要本发明提供能够高效率地制造光扩散膜的光扩散膜的制造方法和用该方法得到的光扩散膜，该光扩散膜可容易地调节多个百叶结构区域中的板状区域的倾斜角组合，并提高光扩散角度区域内的扩散光强度的均一性，进而有效扩大了光扩散角度区域。具有第1百叶结构区域和第2百叶结构区域的光扩散膜的制造方法，其中包括以下工序(a)～(d)：(a)准备光扩散膜用组合物的工序；(b)涂布光扩散膜用组合物，形成涂布层的工序；(c)进行第1活性能量射线照射，在涂布层的下方部分形成第1百叶结构区域，并在涂布层的上方部分保留百叶结构未形成区域的工序；(d)进行第2活性能量射线照射，在百叶结构未形成区域形成第2百叶结构区域的工序。CN103946728ACN103946728ACN103946728A权利要求书1/1页1.一种光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述光扩散膜具有将折射率不同的多个板状区域顺着沿膜面的任一方向交互地平行配置而成的第1百叶结构区域和第2百叶结构区域，所述光扩散膜的制造方法包括下述工序(a)～(d)，(a)准备含折射率不同的2种聚合性化合物的光扩散膜用组合物的工序，(b)对加工片涂布所述光扩散膜用组合物而形成涂布层的工序，(c)在有氧气氛下，对所述涂布层进行第1活性能量射线照射，在所述涂布层的下方部分形成第1百叶结构区域，并在所述涂布层的上方部分保留百叶结构未形成区域的工序，(d)在非氧气氛下，对所述涂布层进行第2活性能量射线照射，在所述百叶结构未形成区域形成第2百叶结构区域的工序。2.根据权利要求1所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，在所述第1和第2活性能量射线照射中，对所述涂布层的上表面以线状照射活性能量射线。3.根据权利要求1或2所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述第1活性能量射线照射中的照射角度与所述第2活性能量射线照射中的照射角度之差的绝对值为1°以上的值。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述第1活性能量射线照射中的涂布层表面的照度为0.1～3mW/cm2范围内的值。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述第1活性能量射线照射中的涂布层表面的光量为5～100mJ/cm2范围内的值。6.根据权利要求1～5中任一项所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述第2活性能量射线照射中的涂布层表面的照度为0.1～20mW/cm2范围内的值。7.根据权利要求1～6中任一项所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，所述第2活性能量射线照射中的涂布层表面的光量为5～300mJ/cm2范围内的值。8.根据权利要求1～7中任一项所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于，在所述(d)工序中，对所述涂布层的上表面在层压活性能量射线透射片的状态下进行所述第2活性能量射线照射。9.一种光扩散膜，其中，具有将折射率不同的多个板状区域顺着沿膜面的任一方向交互地平行配置而成的第1百叶结构区域和第2百叶结构区域，通过包括下述工序(a)～(d)的制造方法而得到，(a)准备含折射率不同的2种聚合性化合物的光扩散膜用组合物的工序，(b)对加工片涂布所述光扩散膜用组合物而形成涂布层的工序，(c)在有氧气氛下，对所述涂布层进行第1活性能量射线照射，在所述涂布层的下方部分形成第1百叶结构区域，并在所述涂布层的上方部分保留百叶结构未形成区域的工序，(d)在非氧气氛下，对所述涂布层进行第2活性能量射线照射，在所述百叶结构未形成区域形成第2百叶结构区域的工序。2CN103946728A说明书1/32页光扩散膜的制造方法和光