滚轮式紫外线软压印方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102183875A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102183875A(43)申请公布日2011.09.14(21)申请号201110118347.2(22)申请日2011.05.09(71)申请人苏州光舵微纳科技有限公司地址215513江苏省常熟市经济开发区四海路11号104(72)发明人陈沁史晓华(74)专利代理机构北京同恒源知识产权代理有限公司11275代理人赵荣之(51)Int.Cl.G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称滚轮式紫外线软压印方法(57)摘要本发明公开了一种滚轮式紫外线软压印方法，包括以下步骤：1）应用微细加工技术制作硬压印模；2）利用硬压印模翻刻制作软压印模；3）在衬底表面涂覆压印胶；4）利用滚轮线性滚压软压印模，将软压印模上的压印图形压印到衬底表面的压印胶上；5）使用紫外光对压印胶进行充分曝光；6）压印胶完全固化后，剥离软压印模。本发明结合了紫外线压印、软压印和滚轮式压印的优点，克服了普通硬模压印在大面积图形转换中均匀性问题，减小了衬底弯曲和表面不平整的影响，可以实现大尺寸样片的均匀压印，整个工艺过程简单，没有高温高压过程，不需要昂贵的激光器和光学器件，压印时间短，可控性高。CN1028375ACCNN110218387502183879A权利要求书1/1页1.一种滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：包括以下步骤：1）应用微细加工技术制作硬压印模；2）利用硬压印模翻刻制作软压印模；3）在衬底表面涂覆压印胶；4）利用滚轮线性滚压软压印模，将软压印模上的压印图形压印到衬底表面的压印胶上；5）使用紫外光对压印胶进行充分曝光；6）压印胶完全固化后，剥离软压印模。2.根据权利要求1所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述步骤1）中，所述微细加工技术为电子束曝光和干法刻蚀。3.根据权利要求2所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述步骤1）中，所述制作硬压印模的具体步骤为：A.在硬模板上涂覆电子束胶；B.按照设计的压印图形对电子束胶进行电子束曝光；C.显影获得电子束胶上的压印图形；D.以电子束胶为掩模利用干法刻蚀进行硬模板的刻蚀；E.去除残余电子束胶完成硬压印模的制作。4.根据权利要求3所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述电子束胶为ZEP520A或PMMA。5.根据权利要求3所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述硬模板为硅晶片。6.根据权利要求3所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述硬模板为石英板，且在所述步骤A中，在电子束胶上蒸发或淀积导电层。7.根据权利要求1所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述步骤2）中，所述利用硬压印模翻刻制作软压印模的具体步骤为：a.在硬压印模有压印图形的一面上旋转涂覆高弹性模量的PDMS溶液；b.在热板上对高弹性模量的PDMS溶液进行热固化；c.在高弹性模量的PDMS表面涂覆低弹性模量的PDMS溶液；d.在热板上对低弹性模量的PDMS溶液进行热固化；e.将固化的PDMS双层模从硬压印模上剥离下来，得到软压印模。8.根据权利要求1至7任意一项所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述压印胶为LR8765、Amonilseries或OG146。9.根据权利要求1至7任意一项所述的滚轮式紫外线软压印方法，其特征在于：所述衬底材料为石英、硅、蓝宝石、砷化镓、铟镓砷、氮化镓或各种金属。2CCNN110218387502183879A说明书1/3页滚轮式紫外线软压印方法技术领域[0001]本发明属于微纳米器件制作技术领域，具体涉及一种纳米压印方法。背景技术[0002]微纳米器件制作工艺，为近十多年来兴起的随着光电子应用领域，通讯领域，生物探测领域的发展需要而诞生的高新技术。即在半导体，金属及其它各种材料上，根据应用需要，制作出尺寸在微米级或纳米级的结构，此结构结合材料本身的特性，具有独特的应用。微纳米器件制作的主要工艺流程，包括电子束写版技术，紫外光写版技术，离子体蚀刻技术，金属蒸镀技术等。[0003]纳米压印技术，是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由StephenYChou教授在1995年率先提出，这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为：不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形，与传统光刻技术相比，其优点在于：1)不依赖于光学曝光，分辨率高；2)不需要昂贵的激光器和复杂精密的光学系统，成本低；3)可以实现并行的图形转换；4)三维复杂结构的一次成型。[0004]现有的纳米压印技术主要有三种：热压印技术、紫外线压印技术和微接触纳米压印技术。其中，由