设计喷洒气流以镀膜均匀硅薄膜.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103014661A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN103014661A(43)申请公布日2013.04.03(21)申请号201110279645.X(22)申请日2011.09.20(71)申请人吉富新能源科技(上海)有限公司地址201707上海市青浦区北青公路8228号A1栋(72)发明人戴嘉男刘幼海刘吉人(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/24(2006.01)C23C16/52(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书33页页附图附图33页(54)发明名称设计喷洒气流以镀膜均匀硅薄膜(57)摘要本发明主要目的是设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜。其系统内部主要包含了入口端、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、破真空腔及出口端。在每个腔体内都设有传动滚轮及真空Pump，及Slitvalve，而在制程腔内部则有加热装置、RF电极板，以及最重要的showerhead，以进行制程。CN10346ACN103014661A权利要求书1/1页1.本发明主要目的是设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其系统内部主要包含了入口端、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、破真空腔及出口端，在每个腔体内都设有传动滚轮及真空Pump，及Slitvalve，而在制程腔内部则有加热装置、RF电极板，以及最重要的showerhead，以进行制程；本发明最重要的就是showerhead设计，其主要是分成了三个部分，当气体从源头端流出时，会先到showerhead的第一层，此层的孔径主要是设计笔直状，能够让气体均匀的流出，接着气体会到达showerhead的第二层，此层的孔径也是笔直状，但是会与第一层有交错的设计，此主要就是让气体不要一次直接笔直到达TCO玻璃，在还没有开始扩散就被Pump抽气带走，且可以保持showerhead有均匀的气流，最后是到达showerhead的第三层，此层的设计是带有漏斗状的设计，其主要目的就是让气体能够像漏斗般的流出，能够完整均匀的流向TCO玻璃上，且不会受到蝶阀控压及Pump抽气而有扰流的情形，故此发明showerhead设计就可以让TCO玻璃有均匀的气体流向，且在RF电极开启Power的时候，这些均匀的气流就可以开始分解成硅原子，并且能够均匀的镀膜在玻璃上，藉此来得到均匀的膜层，并且能够追求有高效率的太阳能硅薄膜电池。2.根据权利要求1所述的一种设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其中入口端、抽真空腔、制程腔、破真空腔及出口端都设计传动滚轮及定位Sensor，可以使玻璃在传送时可以平稳传送，且到达定位时可以作定位校正，不会因为Slitvalve作开关，而去挤压到玻璃，可以保护玻璃安全。3.根据权利要求1所述的一种设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其抽真空腔、制程腔以及破真空腔，都设计抽气Pump以及Slitvalve，其Pump可以将腔体抽至底压，以便能够进行制程，且其抽及破真空腔都各有vent的功能，可由电脑界面作控制，依腔体实际情形及需求作抽及真空的动作，且其Slitvalve可以作开关动作，可以让玻璃进行传片，且电脑界面可以监控当抽真空腔、制程腔及破真空腔都是真空下时，其Slitvalve才可进行作动。4.根据权利要求1所述的设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其制程腔内部设有一组特殊设计的showerhead，此Showerhead有三层设计，第一层为笔直状，且孔径较大，可以让气体大量的进入到Showerhead且让气体作混合，第二层也是笔直状，孔径较小，但气流长度较长，可以让气体缓慢且均匀的流入到第三层，第三层则设计漏斗状，主要是要让气体从第二层出来时，就可以作扩散的动作，可以把气体均匀的扩散到TCO玻璃表面上，并由RFpowersupply开启产生电浆进行硅薄膜镀膜制程。5.根据权利要求1所述的设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其制程腔内部设有一组蝶阀，此蝶阀的功能是控制开度并将气体由Pump抽走，其蝶阀开度会依气体流量大小，以及制程所需的压力作一个控制，可以让气体从showerhead扩散下来时，均匀的抽走不需要或者是残留的气体，可以让腔体内部达到一个稳定的趋势，并能够稳定进行制程，可以使得整体制程是均匀状态下，且可以提高太阳能硅薄膜的效率。2CN103014661A说明书1/3页设计喷洒气流以镀膜均匀硅薄膜技术领域[0001]本方法是将薄膜太阳能中的技术核心PECVD的传片技术，主要是当TCO玻璃进入到制程腔时，会由气流孔开始通入制程气体，并由蝶阀进行开度控制，以保持腔体内部固定制程压力，并由RFpowersupply开启以进行制程，