具自转及公转复合式真空溅镀设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103184416A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103184416103184416A(43)申请公布日2013.07.03(21)申请号201110451209.6(22)申请日2011.12.29(71)申请人财团法人金属工业研究发展中心地址中国台湾高雄市(72)发明人杨济华杨景富卓廷彬高于迦吴政谚(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人董惠石(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书4页说明书4页附图5页附图5页(54)发明名称具自转及公转复合式真空溅镀设备(57)摘要本发明涉及一种用于镀膜的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其包含有一腔体、一滚筒、多个治具、至少一靶台及一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置，该腔体具有一能形成真空的内部空间，该滚筒设于该腔体的内部空间内，治具皆设于该滚筒内，且环绕排列于该滚筒的轴心外，靶台设于该滚筒内，该靶台上设有至少一靶源。本发明使用时，通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时，亦同时自转，因此治具上的待镀物，其每一面皆可轮流朝向靶台的靶源，进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处，以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到可使待镀物的各面均匀镀膜的目的。CN103184416ACN103846ACN103184416A权利要求书1/1页1.一种具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述具自转及公转复合式真空溅镀设备包含：一腔体，其具有一能形成真空的内部空间；一滚筒，其设于所述腔体的内部空间内；多个治具，其皆设于所述滚筒内，且环绕排列于所述滚筒的轴心外；至少一靶台，其设于所述滚筒内，所述靶台上设有至少一靶源；以及一使各所述治具自转并相对所述靶台的靶源公转的动力装置。2.如权利要求1所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述动力装置包含有一动力源及一传动机构，其动力源连接并驱动所述传动机构，所述传动机构连接并驱动各所述治具，并使各所述治具能相对所述靶台的靶源公转，并且于公转时，各所述治具同时自转。3.如权利要求2所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述动力装置的传动机构包含有一中心齿轮及多个环绕齿轮，所述中心齿轮固设于所述滚筒的轴向底面；所述环绕齿轮枢设于所述滚筒的轴向底面，且环绕并啮合于所述中心齿轮，所述治具固设于相对应的所述环绕齿轮轴心；所述动力源驱动所述中心齿轮转动。4.如权利要求3所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，各所述治具包含有一主杆及多个固定件，所述主杆端部固设于相对应的所述环绕齿轮轴心，各所述固定件间隔设置于所述主杆上。5.如权利要求4所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，各所述固定件包含有一直杆、多个横杆及一固定杆；所述直杆设于该主杆上；各所述横杆一端间隔设置于所述直杆上；所述固定杆装设于各所述横杆上，且位于所述横杆的另一端。6.如权利要求1至5中任一项所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，所述腔体进一步具有一轴向的开口；另包含一门体，该门体能分离地盖设于该腔体的轴向开口，该靶台的一端连接该门体。7.如权利要求1至5中任一项所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，该具自转及公转复合式真空溅镀设备具有两靶台，两所述靶台的夹角小于180度。8.如权利要求6所述的具自转及公转复合式真空溅镀设备，其特征在于，该具自转及公转复合式真空溅镀设备具有两靶台，两所述靶台的夹角小于180度。2CN103184416A说明书1/4页具自转及公转复合式真空溅镀设备技术领域[0001]本发明涉及一种用于镀膜的工具，尤指一种具自转及公转复合式真空溅镀设备。背景技术[0002]溅镀是指利用氩离子轰击靶源，靶源原子被击出后变成气相并析镀于待镀物上，溅镀具有以下优点：一，可广泛应用，几乎任何材料均可镀上镀膜；二，无污染；三，附着性良好。[0003]现有的真空溅镀设备包含有一腔体、一滚筒、多个治具、一动力装置及一靶台；腔体内为真空；滚筒轴向设于腔体的真空内部空间内，且具有一轴向开口；各治具环绕设置于滚筒内；动力装置使滚筒及治具在腔体内转动；靶台穿设滚筒，且靶台上设有至少一靶源。[0004]使用时，待镀物设于治具上，而靶台上的靶源则开始解离以提高滚筒内的离子浓度，并使待镀物可进行镀膜；而由于靶台不动，且靶台上的靶源始终面对同一方向，因此正对靶源之处的离子浓度自然较他处为高；所以使用时，动力装置会带动滚筒、治具及待镀物围绕靶台转动，进而使各治具上的待镀物，皆可轮流经过高离子浓度之处，以达到各待镀物均匀镀膜的功效。[0005]然而，即使各治具皆会轮流经过靶源前方，但是由于每次经