管道支架及溅镀真空管路.pdf
Ke****67
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管道支架及溅镀真空管路.pdf
本发明涉及一种管道支架及使用该管道支架对真空管道进行支撑固定的溅镀真空管路,所述管道支架通过设置底座和固定座,底座与固定座之间通过支杆连接,支杆靠近底座一端可伸入底座内侧且伸入长度可通过调节件调节,从而实现支杆的升降设计,进而调节底座与固定座之间的间距,调节管道支架的整体高度,固定环的设计,可对管道进行限制、固定,避免管道因剧烈振动出现裂管。
真空溅镀紫外光固化面漆.pdf
本发明属于涂料技术领域,特别涉及一种真空溅镀紫外光固化面漆,它由以下重量百分比的原料组成:芳香酸甲基丙烯酸半酯20%~25%、乙酸丁酯10%~20%、乙酸乙酯15%~20%、六官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯15%~20%、三官能脂肪族聚氨酯丙烯酸酯1.5%~10%、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯5%~10%、1,6-己醇双丙烯酸酯5%~8%、1-羟基-环己基苯酮2%~3%、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮1%~2%、流平剂0.5%~3%;本发明固化快速且具有良好的耐磨性、耐污性、耐硬物划伤性,光泽度高,挥发性低,
具自转及公转复合式真空溅镀设备.pdf
本发明涉及一种用于镀膜的具自转及公转复合式真空溅镀设备,其包含有一腔体、一滚筒、多个治具、至少一靶台及一使各治具自转并相对靶台的靶源公转的动力装置,该腔体具有一能形成真空的内部空间,该滚筒设于该腔体的内部空间内,治具皆设于该滚筒内,且环绕排列于该滚筒的轴心外,靶台设于该滚筒内,该靶台上设有至少一靶源。本发明使用时,通过使各治具在环绕靶台的靶源公转时,亦同时自转,因此治具上的待镀物,其每一面皆可轮流朝向靶台的靶源,进而使每一面皆可轮流接触到离子浓度较高之处,以使各面的镀膜厚度更为均匀。本发明借此达到可使待镀
蒸镀与溅镀差异.doc
金屬鍍膜(MetalDeposition)又稱物理鍍膜(PhysicalVaporDeposition;PVD),依原理分為蒸鍍(evaporation)與濺鍍(sputtering)兩種。PVD基本上都需要抽真空:前者在10-6~10-7Torr的環境中蒸著金屬;後者則須在激發電漿前,將氣室內殘餘空氣抽除,也是要抽到10-6~10-7Torr的程度。一般的機械式抽氣幫浦,只能抽到10-3Torr的真空度,之後須再串接高真空幫浦(機械式幫浦當作接觸大氣的前級幫浦),如:擴散式幫浦(diffusionpum
一种溅镀载具及溅镀方法.pdf
本发明公开了一种溅镀载具及溅镀方法,溅镀载具包括一本体,所述本体为一平板结构,具有相对设置的工作面和底面,本体上设有多个阶梯孔,阶梯孔贯通本体的工作面到底面,阶梯孔包括从所述工作面向底面延伸的第一子通孔和第二子通孔,第一子通孔的上端面为本体的工作面,第一子通孔的下端收敛于第二子通孔的上端面,且第一子通孔的下端轮廓尺寸大于第二子通孔的上端轮廓尺寸,第二子通孔的下端面为本体的底面;溅镀载具还包括一粘着层,粘着层粘附于本体的工作面上,粘着层在阶梯孔对应的部位一一开设有通孔。本发明的溅镀载具可以有效解决溅镀制程中