光致抗蚀剂工艺的优化设计.docx
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光致抗蚀剂工艺的优化设计.docx
光致抗蚀剂工艺的优化设计光致抗蚀剂工艺的优化设计摘要:光致抗蚀剂作为一种新型环保防腐材料,具有很大的发展潜力。本论文针对光致抗蚀剂在工艺优化设计方面的问题进行了研究。通过对光致抗蚀剂工艺的分析,探讨了工艺参数的优化设定以及实验方法的改进。通过实验验证,得出了最佳的工艺参数设定,为光致抗蚀剂的应用提供了技术支持。1.引言光致抗蚀剂是一种能够利用光的能量来产生保护膜的材料。它具有防腐性能好、环保、使用方便等优点,被广泛应用于钢铁、船舶、建筑等领域。然而,光致抗蚀剂的工艺优化设计仍然存在一些问题,影响了其在实际
光致抗蚀剂的干式显影工艺.docx
光致抗蚀剂的干式显影工艺光致抗蚀剂(Photosensitivecorrosioninhibitor)是一种新型的抗蚀材料,可通过光激发来控制金属表面的腐蚀行为。它具有独特的光电转换性能,能够在光照条件下产生阳极保护,并在无光照条件下实现阴极保护,提高了金属材料的抗蚀性能。干式显影是一种将化学显影转化为光学显影的新颖工艺,通过光照的方式实现对金属表面的腐蚀控制,具有高效、无污染、节能等优点。本文将探讨光致抗蚀剂在干式显影工艺中的应用,以及相关的研究进展和未来发展方向。首先,光致抗蚀剂的基本原理是根据光照对
盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法.pdf
本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。本发明公开一种由式(I)表示的盐,其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,A1表示C1-C30一价有机基团,X1表示其中氢原子可以被羟基代替的C1-C10脂族烃基,m1和m2各自独立地表示1至4的整数,以及Z+表示有机阳离子。
盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法.pdf
本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示,其中:Q1和Q2各自独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基;L1表示C1-C20三价脂肪族饱和烃基,其中与脂肪族饱和烃链部分的亚甲基结合的氢原子可以被氟原子或羟基代替并且其中亚甲基可以被氧原子、-NR2-或羰基代替,其中R2表示氢原子或C1-C6烷基,L1-OH的羟基位于L1的脂肪族饱和烃链部分;W表示C3-C36脂环烃基,其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替,并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基、C1-C1
盐,光致抗蚀剂组合物,以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法.pdf
本发明提供一种盐,光致抗蚀剂组合物,以及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述盐由式(I)表示,其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,n表示0或1,L1表示单键或其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替的C1-C10烷烃二基,条件是当n是0时,L1不是单键,环W表示C3-C36脂族环,其中亚甲基可以被氧原子、硫原子、羰基或磺酰基代替,并且其中氢原子可以被羟基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基代替,R1表示羟基或由保护基团保护的羟基,并且Z+表示有机阳离子。