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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103459342A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103459342103459342A(43)申请公布日2013.12.18(21)申请号201280017721.2代理人杨勇郑建晖(22)申请日2012.02.08(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)(30)优先权数据2011-0276832011.02.10JPC03C15/02(2006.01)C03C23/00(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日2013.10.10(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2012/0528182012.02.08(87)PCT申请的公布数据WO2012/108452JA2012.08.16(71)申请人株式会社NSC地址日本大阪府丰中市(72)发明人西山荣(74)专利代理机构北京北翔知识产权代理有限公司11285权权利要求书1页利要求书1页说明书6页说明书6页附图4页附图4页(54)发明名称玻璃基板的制造方法及其装置(57)摘要本发明的课题在于,提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的化学研磨装置。其解决手段为,本发明的化学研磨装置具有:输送通路,其沿水平方向输送玻璃基板(GL);研磨处理部(16)、(22),其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化;洗涤处理部(24),其对经过研磨处理部(22)而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤,其中,在向研磨处理部(16)导入玻璃基板的导入部设置有:旋转滚轮(43),其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转;喷射部(NZ1)、(NZ2),其从研磨处理部(16)的外侧向旋转滚轮(43)喷射水。CN103459342ACN1034592ACN103459342A权利要求书1/1页1.一种玻璃基板的化学研磨装置,其特征在于,具有:输送通路,其沿水平方向输送玻璃基板;研磨处理部,其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化;洗涤处理部,其对经过研磨处理部而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤,其中,在向所述研磨处理部导入玻璃基板的导入部设置有:旋转滚轮,其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转;喷射部,其从研磨处理部的外侧向所述旋转滚轮喷射水。2.权利要求1所述的化学研磨装置,其特征在于,在所述研磨处理部配置有沿玻璃基板的输送方向延伸的一组喷射管,从形成于各个喷射管的喷出口向玻璃基板喷出化学研磨液。3.权利要求2所述的化学研磨装置,其特征在于,所述一组喷射管配置于玻璃基板的上部和下部。4.权利要求3所述的化学研磨装置,其特征在于,所述一组喷射管,其轴向长度设定在2.5m以下。5.权利要求3或4所述的化学研磨装置,其特征在于,所述一组喷射管配置于与所述输送方向垂直相交的玻璃基板的宽度方向,向中央位置的喷射管供给比周边位置的喷射管高压的化学研磨液。6.权利要求2-5所述的化学研磨装置,其特征在于,所述一组喷射管以可以旋转的方式被保持,且沿喷射管的圆周方向摇动。7.权利要求1-6所述的化学研磨装置,其特征在于,所述研磨处理部分割成具有几乎相同结构的多个处理腔室,且使用相同成分的研磨液而对玻璃基板进行多次研磨。8.权利要求7所述的化学研磨装置,其特征在于,所述多个处理腔室经由中继腔室而连接。9.权利要求1-8任意一项所述的化学研磨装置,其特征在于,在所述中继腔室中,具有与处理腔室相同成分的化学研磨液向玻璃基板喷出。10.一种使用化学研磨装置对板厚度进行薄型化的玻璃基板的制造方法,该化学研磨装置具有:输送通路,其沿水平方向输送玻璃基板;研磨处理部,其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化;洗涤处理部,其对经过研磨处理部而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤,其中,在向所述研磨处理部导入玻璃基板的导入部设置有:旋转滚轮,其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转;喷射部,其从研磨处理部的外侧向所述旋转滚轮喷射水。2CN103459342A说明书1/6页玻璃基板的制造方法及其装置技术领域[0001]本发明涉及一种能够对大型玻璃基板均匀地进行薄型化的玻璃基板的制造方法及其化学研磨装置。背景技术[0002]作为在输送玻璃基板的同时喷射蚀刻液的制造加工装置,已知的有,例如,专利文献1中记载的湿法蚀刻装置。并且,该装置利用蚀刻液去除形成于玻璃基板的铬或者铬合金膜。[0003]现有技术文献[0004]专利文献[0005]专利文献1:日本国特开2000-144454号公报发明内容[0006]发明要解决的课题[0007]然而,上述发明仅仅记载了去除形成在玻璃基板上的薄膜的结构或方法,并没有记载了对玻璃基板自身进行薄型化的结构或方法。[00