一种三维移动阴极磁控溅射靶.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104099574104099574A(43)申请公布日2014.10.15(21)申请号201310125541.2(22)申请日2013.04.12(71)申请人昆山艾诺美航天材料有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市开发区澄湖路218号(72)发明人韩裕鲲(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书2页说明书2页附图1页附图1页(54)发明名称一种三维移动阴极磁控溅射靶(57)摘要本发明公开了一种三维移动阴极磁控溅射靶，其主结构包括支撑平台、水平导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架。所述支撑平台是用来承载所述垂直移动平台和所述靶材支架并沿所述水平导轨运动。所述支撑平台底部左右两端各有两个轮子可以沿导轨滚动，右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连，水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动。中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。对于大面积的复合曲面基材，由于真空室空间的限制，移动基材是不现实的，只靠一维的平面运动不能实现镀膜的连续性和均匀性。三维移动的阴极磁控溅射靶材，能够实现快速、均匀的大面积镀膜。CN104099574ACN104957ACN104099574A权利要求书1/1页1.三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：包括支撑平台、纵向导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架，所述支撑平台左右两端各有两个轮子可以沿水平导轨滚动，承载着垂直移动平台和靶材支架，所述支撑平台右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连，水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动，中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。2.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：水平导轨由两条导轨和一条螺杆组成，螺杆传动可以精确控制支撑平台的水平位移。3.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：垂直导轨由四根螺杆组成，螺杆传动精确控制垂直移动平台的垂直位移。螺杆底部四个链轮由主动轮带动，保证其运动一致性。4.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：垂直移动平台承载靶材支架作垂直运动，平台四个角有螺纹孔与螺杆相连以达到运动的目的。5.根据权利要求1所述的三维移动阴极磁控溅射靶，其特征在于：靶材的运动均由预先编写的电脑程式控制，使其轨迹与基材外部曲面对应。2CN104099574A说明书1/2页一种三维移动阴极磁控溅射靶技术领域[0001]本发明涉及一种三维移动阴极磁控溅射靶，特别涉及用于真航空领域，对复合曲面进行大面积镀膜的一种三维移动阴极磁控溅射靶。背景技术[0002]现有的真空镀膜设备，基本都是靶材固定不动，靠移动基材来使镀膜均匀。然而对于大面积的基材，由于真空室空间的限制，移动基材是不现实的，为解决这个问题，就需要改为移动靶材来完成镀膜的工作。此外，如对于大面积且系复合曲面基材时，只靠水平的直线运动无法实现镀膜的连续性和均匀性。因此复合曲面的大面积镀膜，需要设计一种可以三维移动的阴极磁控溅射靶材，才能够实现快速、均匀的大面积镀膜。发明内容[0003]本发明的目的在于提供一种三维移动阴极磁控溅射靶，在基材不移动的情况下，靶材以三维方式移动来实现快速、均匀的大面积复合曲面镀膜。[0004]为了实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明采用一下技术方案实现：[0005]一种三维移动阴极磁控溅射靶，其主结构包括支撑平台、水平导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架。所述支撑平台是用来承载所述垂直移动平台和所述靶材支架并沿所述水平导轨运动。所述支撑平台底部左右两端各有两个轮子可以沿导轨滚动，右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连，水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动。中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。[0006]优选的，所述水平导轨安装在真空室底部，由两条导轨和一条螺杆组成。所述支撑平台通过两端的四个轮子可以在导轨上作水平运动，由螺杆传动精确控制其水平位移。[0007]优选的，所述垂直导轨由四根螺杆构成，支撑着所述垂直移动平台。螺杆与所述支撑平台连接处没有螺纹，通过轴承固定在所述支撑平台上。螺杆底部安装链轮，四个链轮由链条连接在一起并由电动控制装置以达到运动的一致性。链条、链轮以及电动控制装置的主动轮都在所述支撑平台的下方。[0008]优选的，所述垂直移动平台用来承载所述靶材支架作垂直运动。所述垂直移动平台四个角有螺纹孔与螺杆连接，中间部位用螺栓固定所述靶材支架。[0009]优选的，所述靶材支架承载着靶材，其材料为不锈钢。[0010]靶材的运动均由预先编写的电脑程式控制，使其轨迹与基材外部曲面对应。[0011]以上说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明