一种磁控溅射旋转靶.pdf
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相关资料
一种磁控溅射旋转靶.pdf
本发明涉及旋转靶技术领域,公开了一种磁控溅射旋转靶,包括箱体和设置在箱体内部的靶材,箱体的内部还设置有安装机构,安装机构的一侧设置有放置机构,箱体的底部设置有位移机构,箱体的两侧分别设置有导热机构和导电机构,当靶材放置在放置板上时,将底板从内槽孔中抽出,同时将沉槽中的转筒旋转至与底板垂直方向,再利用磁套管将连接板向上移动,且将对接弹簧的一端与靶材相连接,在连接板向上移动的时候,对接弹簧不断的被挤压,对接弹簧挤压度越大,对接弹簧稳定性越高,提高对靶材放置的稳定性,防止出现靶材掉落的现象。
一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶.pdf
本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶,包括支撑架,固定卡扣,旋转轴,旋转银靶管体,电机,电机控制单元;所述旋转银靶管体内部穿有所述旋转轴,所述旋转轴通过所述旋转银靶管体两端的所述固定卡扣配合与所述旋转银靶管体相对固定,所述旋转轴一端与所述支撑架相连,所述旋转轴的另一端与所述电机相连。本发明的靶材利用率高,有效减少打弧和靶面掉渣,溅射速率高,降低了成本。
一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶.pdf
本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶,包括旋转镍铬靶管体,固定卡扣,旋转轴,电机,电机控制单元,支撑架;所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴,所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定,所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连,所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。本发明的靶材利用率高,溅射速率高,有效减少打弧和靶面掉渣,工艺稳定性好。
一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置.pdf
本发明涉及一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置,所述装置包括真空靶室、旋转靶盘、磁控溅射源、蒸镀坩埚以及蒸镀电极,在真空靶室中,蒸镀坩埚与旋转靶盘间隔一定距离,蒸镀坩埚设置于蒸镀电极之间,蒸镀电极与真空靶室绝缘密封,穿过真空靶室与真空靶室外的蒸镀电源相连,磁控溅射源设置于旋转靶盘另一侧,磁控溅射源与真空靶室绝缘密封,穿过真空靶室与真空靶室外的溅射电源相连,真空靶室预留氩气充气孔以向真空靶室充入高纯氩气进行保护,在真空靶室盖板上设置手套箱,以在制靶完成后在氩气氛围中对反应靶进行封装。采用本发明中公开的装置,
一种旋转靶材.pdf
本发明提供了一种旋转靶材,所述的旋转靶材包括靶材本体,所述的靶材本体为环形结构,所述的靶材本体两侧表面均设置有同轴的凸台,所述的靶材本体和凸台为一体式结构,所述凸台的表面分为中心区域的平面以及外周区域的梯形斜面。在本发明中,提供了一种新的形状设计方案用于铜旋转溅射靶材的使用,在对应旋转靶溅射最深的区域设计了旋转靶管体两端的加厚区和过渡区,既达到能加长溅射寿命的目的,又不会因靶材加厚区域超差影响磁控溅射效果。