一种磁控溅射系统的旋转阴极.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110273129A(43)申请公布日2019.09.24(21)申请号201910642910.2(22)申请日2019.07.17(71)申请人镇江市德利克真空设备科技有限公司地址212216江苏省镇江市扬中市新材料工业园兴旺大道(72)发明人匡国庆(74)专利代理机构镇江基德专利代理事务所(普通合伙)32306代理人邓月芳(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图4页(54)发明名称一种磁控溅射系统的旋转阴极(57)摘要本发明公开了一种磁控溅射系统的旋转阴极，包括驱动装置和管状靶；所述的驱动装置包括主支撑管、外套管和底架；所述的主支撑管上依次套设有上骨架密封、上连接轴承、从动轮、下连接轴承、下骨架密封和呈法兰状的铜导体，本装置采用四根呈圆周均匀分布的支撑柱，并在支撑柱上套设有压紧弹簧，通过四个压紧弹簧，可以将铜导体紧紧的贴在下骨架密封上，从而保证电流传递的稳定可靠，与传统的压紧方式相比，本装置能提供更为稳定的压紧力，从而保证装置的稳定可靠。进过一定时间的实验，本装置在长时间使用后，也不会出现支承不良、晃动以及贴合面不平齐的情况。CN110273129ACN110273129A权利要求书1/1页1.一种磁控溅射系统的旋转阴极，其特征在于，包括驱动装置和管状靶；所述的驱动装置包括主支撑管、外套管和底架；所述的主支撑管上依次套设有上骨架密封、上连接轴承、从动轮、下连接轴承、下骨架密封和呈法兰状的铜导体，所述的铜导体通过四个呈圆周均匀分布的支撑柱与底架相连，所述支撑柱的外壁上均套设有压紧弹簧，所述压紧弹簧的一端与底架相连，另一端抵接在铜导体的下表面上；所述的从动轮通过皮带与电机的输出轴相连，所述的主支撑管的外壁通过上、下连接轴承与外套管的内壁相连；所述管状靶的尾部与主支撑管的头部相连。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射系统的旋转阴极，其特征在于，所述管状靶的尾部通过骨架油封与主支撑管的头部相连。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射系统的旋转阴极，其特征在于，所述的外套管与电机支撑板相连。4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射系统的旋转阴极，其特征在于，所述管状靶的头部还设有自由端。5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射系统的旋转阴极，其特征在于，所述的管状靶上设有若干个磁铁，所述的磁铁呈山字形阵列分布。2CN110273129A说明书1/2页一种磁控溅射系统的旋转阴极技术领域[0001]本发明涉及一种磁控溅射系统的旋转阴极。背景技术[0002]旋转靶材的磁控溅射被广泛地用于在基片上制作各种不同的薄膜。在磁控溅射中，待溅射的材料以圆柱形的形状形成或被粘附到由刚性材料制成的圆柱形支撑管的外表面。磁控管总成被安置在管内并供应磁通量，磁通量穿过靶材，使得在靶材的外表面存在大量磁通量。[0003]磁场以一种方式设计，使磁场保留从靶材发射的电子，如增大电子与工作气体电离碰撞的概率，从而增强溅射过程的效率。[0004]旋转阴极在旋转时为了保证供电，往往需要保证供电端在旋转过程中始终能与旋转部分保证良好的接触。但现有的结构往往不太稳定，容易脱落。发明内容[0005]本发明的目的是为了解决以上现有技术的不足，提出了一种磁控溅射系统的旋转阴极。[0006]一种磁控溅射系统的旋转阴极，包括驱动装置和管状靶；所述的驱动装置包括主支撑管、外套管和底架；所述的主支撑管上依次套设有上骨架密封、上连接轴承、从动轮、下连接轴承、下骨架密封和呈法兰状的铜导体，所述的铜导体通过四个呈圆周均匀分布的支撑柱与底架相连，所述支撑柱的外壁上均套设有压紧弹簧，所述压紧弹簧的一端与底架相连，另一端抵接在铜导体的下表面上；所述的从动轮通过皮带与电机的输出轴相连，所述的主支撑管的外壁通过上、下连接轴承与外套管的内壁相连；所述管状靶的尾部与主支撑管的头部相连。[0007]优选地，所述管状靶的尾部通过骨架油封与主支撑管的头部相连。[0008]优选地，所述的外套管与电机支撑板相连。[0009]优选地，所述管状靶的头部还设有自由端。[0010]优选地，所述的管状靶上设有若干个磁铁，所述的磁铁呈山字形阵列分布。[0011]有益效果：[0012]本装置采用四根呈圆周均匀分布的支撑柱，并在支撑柱上套设有压紧弹簧，通过四个压紧弹簧，可以将铜导体紧紧的贴在下骨架密封上，从而保证电流传递的稳定可靠，与传统的压紧方式相比，本装置能提供更为稳定的压紧力，从而保证装置的稳定可靠。进过一定时间的实验，本装置在长时间使用后，也不会出现支承不良、晃动以及贴合面不平齐的情况。附图说明[0013]图1是一种磁控溅射系统的旋转阴极的总体结构示意图；3CN110273