线性滑轨研磨方法及其研磨机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104416445A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.03.18(21)申请号201310367167.7(22)申请日2013.08.21(71)申请人准力机械股份有限公司地址中国台湾台中市北屯区东山路一段192巷27号(72)发明人林馨堂(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274代理人王晶(51)Int.Cl.B24B37/00(2012.01)B24B37/27(2012.01)权利要求书2页说明书5页附图7页(54)发明名称线性滑轨研磨方法及其研磨机构(57)摘要本发明公开了一种线性滑轨研磨方法及其研磨机构，该研磨机构包括设于作动平台上的磁吸台、设于横跨式立架部的二立轴式水平向研磨轮及一卧轴式垂直向研磨轮；本发明在磁吸台顶面上设一缩径磁吸凸面，缩径磁吸凸面呈高凸形态，且宽度小于线性滑轨端面宽度；再利用线性滑轨的端面将线性滑轨吸附定位于缩径磁吸凸面上；对滚子导动面和组装贴靠面进行精密研磨加工；且令二立轴式水平向研磨轮的底端面高度位置低于缩径磁吸凸面高度位置但高于磁吸台顶面高度位置，使立轴式水平向研磨轮能够研磨到线性滑轨的端面与滚子导动面之间相交接的转角部位；本发明可达到精简线性滑轨研磨工序、降低加工误差、提升加工质量的目的。CN104416445ACN104416445A权利要求书1/2页1.一种线性滑轨研磨方法，该线性滑轨包括一组装贴靠面、一端面以及成对形成于线性滑轨相对二侧的滚子导动面；该方法通过一研磨机构进行，该研磨机构包括：一长形机台；一横跨式立架部，呈立向横跨的拱门形态设于长形机台一处；一作动平台，设于长形机台上呈可往复位移作动状且穿过横跨式立架部下方；一磁吸台，设于作动平台上；二立轴式水平向研磨轮，间隔成对地设于横跨式立架部一处；一卧轴式垂直向研磨轮，设于横跨式立架部另一处；其特征在于该方法包括：a）在磁吸台顶面上设一缩径磁吸凸面，缩径磁吸凸面呈高凸形态，且宽度小于线性滑轨端面宽度；b）取得端面已完成研磨加工的线性滑轨；c）利用该端面将线性滑轨吸附定位于缩径磁吸凸面上，构成线性滑轨的组装贴靠面呈朝上待加工状态，且令该线性滑轨的端面二侧边角呈凸伸于缩径磁吸凸面横向二侧外部的状态；d）利用该二立轴式水平向研磨轮进行线性滑轨的二滚子导动面的精密研磨加工；e）另利用该卧轴式垂直向研磨轮进行线性滑轨的组装贴靠面的精密研磨加工；f）令该二立轴式水平向研磨轮的底端面高度位置低于缩径磁吸凸面高度位置但高于磁吸台顶面高度位置，以使立轴式水平向研磨轮能够研磨到线性滑轨的端面与滚子导动面之间相交接的转角部位。2.根据权利要求1所述的线性滑轨研磨方法，其特征在于，所述二立轴式水平向研磨轮于研磨时，为彼此相对位同步进行线性滑轨的二滚子导动面的精密研磨加工的形态，且令二立轴式水平向研磨轮的旋向相反。3.根据权利要求2所述的线性滑轨研磨方法，其特征在于，所述卧轴式垂直向研磨轮与二立轴式水平向研磨轮同步研磨，且卧轴式垂直向研磨轮的位置须与二立轴式水平向研磨轮相错开。4.一种线性滑轨研磨机构，专用以研磨线性滑轨，该线性滑轨包括一组装贴靠面、一端面以及成对形成于线性滑轨相对二侧的滚子导动面；其特征在于该研磨机构包括：一长形机台；以及一横跨式立架部，呈立向横跨的拱门形态设于长形机台一处；一作动平台，设于长形机台上呈可往复位移作动状且穿过横跨式立架部下方；一磁吸台，设于作动平台上；二立轴式水平向研磨轮，间隔成对地设于横跨式立架部一处，藉以对应研磨线性滑轨的二滚子导动面；一卧轴式垂直向研磨轮，设于横跨式立架部另一处，藉以对应研磨线性滑轨的组装贴靠面；且其中，该作动平台的磁吸台顶面上并设有宽度小于线性滑轨端面宽度且呈高凸形态的一缩径磁吸凸面，以利用该端面将线性滑轨吸附定位于该缩径磁吸凸面上，并构成该线性滑轨的端面二侧边角凸伸于缩径磁吸凸面横向二侧外部的状态；又其中，令该二立轴式水平向研磨轮的底端面高度低于缩径磁吸凸面但高于磁吸台顶面，以使立轴式水平向研磨轮能够研磨到线性滑轨的端面与滚子导动面之间相交接的转角部位，且能使线性滑轨在不经翻转的单次吸附定位研磨加工过程中，即可完成其组装贴靠2CN104416445A权利要求书2/2页面及二滚子导动面等三面精密研磨加工。5.根据权利要求4所述的线性滑轨研磨机构，其特征在于，所述磁吸台顶面上设有呈间隔排列设置形态的导扇区块，所述导扇区块为凸出于磁吸台顶面的形态，以使缩径磁吸凸面形成于各导扇区块上。6.根据权利要求5所述的线性滑轨研磨机构，其特征在于，所述磁吸台顶面上设有呈间隔排列设置形态的导扇区块，所述导扇区块为与磁吸台顶面平齐的形态，以使缩径磁吸凸面形成于各导扇区块上。3CN10441