预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/7
2/7
3/7
4/7
5/7
6/7
7/7

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104637835A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.05.20(21)申请号201310553873.0(22)申请日2013.11.06(71)申请人沈阳芯源微电子设备有限公司地址110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号(72)发明人王一谷德君(74)专利代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司21002代理人白振宇(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)F16H7/02(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种单电机驱动双摆臂转动的装置(57)摘要本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域,具体地说是一种单电机驱动双摆臂转动的装置,包括电机、单元固定板、减速器及摆臂单元,电机通过单元固定板安装在晶圆处理单元底座上,电机的输出端连接有减速器,在减速器的输出端连接有第二同步带轮,第二同步带轮的圆周上设有齿;电机的两侧对称设置有结构相同的摆臂单元,摆臂单元包括带轮轴、第一同步带轮、同步传动机构、摆臂轴及摆臂,带轮轴及摆臂轴分别转动安装在单元固定板上,在带轮轴上连接有与第二同步带轮相啮合的第一同步带轮,第一同步带轮通过同步传动机构与摆臂轴的一端相连,摆臂轴的另一端连接有摆臂。本发明具有结构简单紧凑、定位准确、安装方便、价格低廉等特点。CN104637835ACN104637835A权利要求书1/1页1.一种单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:包括电机(14)、单元固定板(15)、减速器(13)及摆臂单元,其中电机(14)通过单元固定板(15)安装在晶圆处理单元底座上,所述电机(14)的输出端连接有减速器(13),在减速器(13)的输出端连接有第二同步带轮(12),该第二同步带轮(12)的圆周上设有齿;所述电机(14)的两侧对称设置有结构相同的摆臂单元,该摆臂单元包括带轮轴(17)、第一同步带轮(11)、同步传动机构、摆臂轴(8)及摆臂(1),所述带轮轴(17)及摆臂轴(8)分别转动安装在所述单元固定板(15)上,在带轮轴(17)上连接有与所述第二同步带轮(12)相啮合的第一同步带轮(11),所述第一同步带轮(11)通过同步传动机构与摆臂轴(8)的一端相连,摆臂轴(8)的另一端连接有摆臂(1);所述电机(14)两侧的摆臂(1)通过电机(14)驱动分别摆动,完成对晶圆(18)的喷洒后复位。2.按权利要求1所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述同步传动机构包括过渡同步带轮(9)、同步带(7)及摆臂轴同步带轮(6),所述过渡同步带轮(9)与第一同步带轮(11)同轴相连,摆臂轴同步带轮(6)连接于所述摆臂轴(8)的一端,所述过渡同步带轮(9)与摆臂轴同步带轮(6)之间通过同步带(7)相连。3.按权利要求1所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述过渡同步带轮(9)位于第一同步带轮(11)的下方,并套接在带轮轴(17)上,该过渡同步带轮(9)通过同步带转接块(10)与所述第一同步带轮(11)连动。4.按权利要求1所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述摆臂轴同步带轮(6)通过齿轮轴转接块(5)与摆臂轴(8)连接,并带动摆臂轴(8)转动。5.按权利要求1或2所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述第二同步带轮(12)的四分之一圆周设有齿,所述电机(14)驱动两侧的摆臂(1)在90°范围内摆动。6.按权利要求1或2所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述电机(14)的两侧对称设有分别安装在单元固定板(15)上的接近开关传感器(3),每个摆臂轴(8)上均设有与所述接近开关传感器(3)相对应的传感器挡片(4)。7.按权利要求1或2所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述电机(14)与减速器(13)同轴键合,在所述单元固定板(15)上安装有腔体底板(16),所述电机(14)容置于该腔体底板(16)上的腔体内。8.按权利要求1或2所述单电机驱动双摆臂转动的装置,其特征在于:所述摆臂(1)的一端与摆臂轴(8)的另一端相连,摆臂(1)的另一端设有喷嘴;所述摆臂(1)通过电机(14)的驱动在所述晶圆(18)的上方做往复变速扫描运动。2CN104637835A说明书1/3页一种单电机驱动双摆臂转动的装置技术领域[0001]本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域,具体地说是一种单电机驱动双摆臂转动的装置。背景技术[0002]目前,半导体晶片湿法处理工艺中需要化学液对晶圆表面进行点喷加工,最常使用的是依靠摆臂摆动来实现化学液与晶圆的相对位置。常见的工艺腔体内一般都含有两个或两个以上的摆臂,这就需要两个甚至更多的电机及其附属必需的元器件来驱动摆臂。随着半导体设备结构日益紧