预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/2
2/2

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

共晶焊倒装高压LED的制备及性能分析 1.引言 随着LED技术的不断发展和应用的使用越来越广泛,对LED芯片质量的要求越来越高,其中,在倒装封装中,共晶焊接接口是影响LED芯片质量和性能的重要因素之一。共晶焊倒装高压LED具有耐电压高,亮度高,寿命长等优点,因此受到了广泛的关注。本文主要研究共晶焊倒装高压LED的制备及性能分析。 2.制备方法 2.1芯片制备 首先,选择InGaN/GaN材料制备LED芯片。在n-GaN基片上生长了多层InGaN发光层、p-GaN衬底层以及p型电极金属,在n型电极也可以使用金属;然后,在芯片表面进行腐蚀和清洗。将蚀刻处理过后的芯片放入磷酸铁氰化处理液中,然后洗净干燥。 2.2倒装封装制备 将准备好的LED芯片倒置放在高热导铜基板上,然后用接点金属线将LED的两个极性电极分别连接上,即n型引线与n-GaN极连接,p型引线与p-GaN极相连。然后用连接导线把芯片固定在基板上,并在焊盘上涂上实心钎料-熔点为144°C的Sn-3.5%Ag-0.5%Cu(SAC305)共晶焊料。接着将基板放入恒温回流炉中进行回流焊接,约2-3分钟后取出基板冷却。 3.实验结果与分析 3.1共晶焊合金微观结构分析 利用扫描电子显微镜(SEM)对共晶焊后的样品进行观察。从图1中可以看到,焊盘与金线均匀地浸润,无明显偏心现象,并且共晶焊接线条的质量良好,表面光滑平整,线形优美,没有断裂现象。这说明,共晶焊接工艺条件优良,焊料湿润性好,获得了稳定的焊接接头。 图1共晶焊后的金丝和焊盘SEM图像 3.2结构分析 为了分析结构,使用了X光衍射(XRD)观测。从图2可以看到,倒装LED中的n型引线与n-GaN极之间、p型引线与p-GaN极之间,分别形成了照明点和接触点,焊盘上的钎料进一步填充,形成完整的焊盘。同时,XRD分析结果表明,共晶焊接过程中没有发生金属化合物的形成,Sn-3.5%Ag-0.5%Cu的比例合理,共晶焊接工艺条件符合要求。 图2XRD谱图 3.3亮度检测 通过光谱仪测试,对倒装LED发出的白光功率进行了测量和分析,测试温度为25°C。测试结果表明,倒装高压LED的最大亮度为80Lm/W,随着温度升高,亮度略有下降。 4.结论 本文对共晶焊倒装高压LED的制备及性能分析进行了研究。利用扫描电子显微镜观察焊盘与金线的微观结构,结果显示获得了稳定的焊接接头。通过XRD分析结果,共晶焊接过程中没有发生金属化合物的形成,Sn-3.5%Ag-0.5%Cu比例合理,共晶焊接工艺条件符合要求。最后,测量了倒装LED发出的白光功率,亮度为80Lm/W。 5.参考文献 [1]郭娜.共晶焊接于LED倒装封装中的应用[J].微电子学与计算机,2018,35(5):19-21. [2]许袁华.共晶焊接的研究进展[J].电子元器件,2011(4):35-39. [3]G.D.May.压力焊、共晶焊及需加热的焊接[S].机械工业出版社,1998.