基于锗量子点的硅基发光器件.docx
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基于锗量子点的硅基发光器件锗量子点(GeQDs)是一种具有吸引力的纳米材料,它们具有高量子效率、可调控的光谱特性以及高生物相容性,因此在生物医学成像、量子点光电器件等领域中具有广泛应用。本文将介绍基于锗量子点的硅基发光器件及其关键性能参数和应用。一、锗量子点的制备方法当前,制备锗量子点主要有两种主要方法:一种是溶液化学方法,另一种是气相法。其中溶液化学方法包括热分解法、微乳液法、溶剂热法、水热法等。这些方法都可以通过不同的实验条件和反应物来实现对成键和颗粒尺寸的控制。气相法则包括简单的热蒸发法、气相反应法
硅基锗材料的异质外延及高效发光器件研制的开题报告.docx
硅基锗材料的异质外延及高效发光器件研制的开题报告【开题报告】一、选题背景高效红光发光二极管是实现彩色LED光源的关键组成部分之一。在目前红色发光材料中,硅基锗材料因其高截止温度、高电学导率等独特优点,已经成为研究的热点之一。其中,异质外延技术是制备硅基锗材料的重要手段之一。异质外延技术具有高度可控性、低损伤断层、提高材料质量等优点,被广泛应用于光电器件制备中。二、研究目的本研究旨在通过异质外延技术制备高质量的硅基锗材料,同时实现其在高效发光器件中的应用。具体研究目的如下:1.制备高质量的硅基锗材料。2.研
基于锗的量子阱器件.pdf
一种量子阱晶体管具有锗量子阱沟道区。含硅的蚀刻停止层提供栅电介质接近沟道的容易放置。III-V族势垒层对沟道增加应变。沟道区之上和之下的缓变硅锗层改进了性能。多种栅电介质材料允许使用高k值栅电介质。
富硅氮化硅和纳米硅多层量子阱硅基发光薄膜与器件.docx
富硅氮化硅和纳米硅多层量子阱硅基发光薄膜与器件引言:在半导体材料中,硅是最常用的基底。但硅基底存在一些局限性,比如其本身不能直接发光,因此需要寻找一些能够发光的材料。在这些发光材料中,氮化硅和硅多层量子阱是最为优秀的代表,它们能够在高温下发光、具有高光稳定性、尺寸稳定性以及表面处理能力。本文将重点讨论这两种材料以及它们所产生的发光薄膜和器件。一、氮化硅的背景和特点氮化硅是一种由硅和氮元素构成的陶瓷材料,其最早应用于航空航天领域,最初被开发用作高温结构材料。随着研究的深入,氮化硅材料已经广泛应用于电子、光电
一种基于硅基量子点光子器件单片集成的方法.pdf
本发明具体公开了一种基于硅基量子点光子器件单片集成的方法,所述方法利用高质量硅上III?V族直接外延技术和量子点技术,通过将激光器与其它主动和被动光电器件在CMOS兼容的SOI衬底上进行单片集成,充分发挥了硅基光子学的优势,从而获得包括激光器、调制器、硅波导和探测器集成的硅基量子点光发射模块,由于本发明中有源器件均使用同一种量子点外延异质结,并采用MBE设备同时生长而成,因而避免了高成本的二次外延生长。本发明通过采用选择性区域褪火与侧面光栅刻蚀技术,既保证了器件的性能又不需要引入二次外延生长,从而大大降低