

硅基锗材料的异质外延及高效发光器件研制的开题报告.docx
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硅基锗材料的异质外延及高效发光器件研制的开题报告.docx
硅基锗材料的异质外延及高效发光器件研制的开题报告【开题报告】一、选题背景高效红光发光二极管是实现彩色LED光源的关键组成部分之一。在目前红色发光材料中,硅基锗材料因其高截止温度、高电学导率等独特优点,已经成为研究的热点之一。其中,异质外延技术是制备硅基锗材料的重要手段之一。异质外延技术具有高度可控性、低损伤断层、提高材料质量等优点,被广泛应用于光电器件制备中。二、研究目的本研究旨在通过异质外延技术制备高质量的硅基锗材料,同时实现其在高效发光器件中的应用。具体研究目的如下:1.制备高质量的硅基锗材料。2.研
硅基锗材料生长与高效发光的开题报告.docx
硅基锗材料生长与高效发光的开题报告摘要硅基锗材料因为其在集成光电子器件、光存储器件、光通讯器件等方面的广泛应用和发挥的巨大作用而备受关注。硅基锗材料的生长和高效发光是硅基锗光电子学研究的重要基础,也是硅基光电子学发展的重要支撑。本文将介绍硅基锗材料生长及其实现高效发光的研究现状与进展,重点讨论了近年来的研究热点和发展趋势。并结合相关实验结果及分析,对其未来的发展趋势和研究方向进行了初步分析和探讨。关键词:硅基锗材料;生长;高效发光;研究现状;发展趋势AbstractSilicon-germaniummat
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硅基锗材料的异质外延生长探究硅基锗材料是一种非常重要的半导体材料,它具有优异的电学性能和光学性能,在集成电路和光电子领域得到广泛的应用。为了实现高性能的硅基锗器件,异质外延生长已被广泛地用于制备锗薄膜和硅基锗复合材料。异质外延生长的原理是在硅基衬底上外延生长锗材料。在这种生长过程中,衬底的晶格要与生长的锗材料匹配,使得锗材料生长时能够保持高质量的晶体结构。在硅基锗材料的异质外延生长过程中,不同的生长技术和控制方法被广泛地研究和应用。在异质外延生长硅基锗薄膜时,最常用的方法是分子束外延(MBE)和金属有机化
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硅基异质结构高效发光器件的研究硅基异质结构高效发光器件的研究摘要随着光电子技术的不断发展,硅基光电子器件在数据通信、光计算和高速光通信等领域中的应用越来越广泛。然而,硅在光电学中的本质限制是它的间接带隙,使得其发光效率和光度均较低。硅基异质结构高效发光器件的研究成为近年来的热点和难点,其不仅有助于提高硅的光电转换效率,而且具有重要的理论意义。本文将介绍硅基异质结构高效发光器件的原理及其实现方式。首先,将简要介绍硅基发光器件的研究现状。接着,将重点介绍硅基异质结构的理论基础和实现方法,包括两类重要的异质结构
硅基异质结构高效发光器件的研究的中期报告.docx
硅基异质结构高效发光器件的研究的中期报告本研究在硅基异质结构高效发光器件的制备、性能测试以及机理探究方面取得了一定进展。下面分别从这三个方面进行报告。一、制备方面我们采用了普通硅衬底上制备过程简单的磁控溅射技术,在氩气和氢气环境下制备了铟锡氧化物(ITO)透明电极和氮化硅(SiNx)抗反射层。在ITO电极和抗反射层上,我们采用了金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术生长氮化硅.在此基础上,我们在MOCVD系统中,添加了有机金属硅源,采用低压化学气相沉积(LPCVD)生长了三氮化物(InGaN)和乙酸乙二