等离子体增强原子层沉积技术研究.pptx
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等离子体增强原子层沉积技术研究的任务书.docx
等离子体增强原子层沉积技术研究的任务书一、课题背景近年来,人类对于纳米材料的需求不断增长,其中纳米薄膜被广泛应用于电子、能源、光电和生物医学等领域。原子层沉积(ALD)技术作为一种卓越的纳米薄膜制备技术,由于其得到的薄膜具有优秀的厚度和成分均匀性,因此备受关注。然而,在传统ALD技术中,沉积速率较慢,长时间的反应导致了薄膜摄入的污染和成分变化,从而限制了其应用。近年来,等离子体增强原子层沉积(PEALD)技术在ALD技术基础上进行了改进,利用等离子体的高能量效应,加速了反应速率,从而提高了薄膜生长速率。此
一种等离子体增强原子层沉积镀膜装置.pdf
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等离子体增强原子层沉积技术制备碳化钴薄膜.pptx
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一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法.pdf
本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法,包括有载气瓶、氢气瓶、AMD‑Ni单体瓶、DAD‑Ni单体瓶、加热炉、机械泵和射频电源,将AMD‑Ni单体瓶和DAD‑Ni单体瓶放在加热套内,加热套内壁缠上加热带,在加热炉内设有反应腔,反应腔内放有基片台,基片台内置有热电偶,所述的载气瓶的出气口分别连接质量流量控制器一、流量控制器二、流量控制器三,流量控制器一的出口依次连接ALD阀一和AMD‑Ni单体瓶的进口,流量控制器二的出口依次连接ALD阀二和DAD‑Ni单体瓶的进口、流量控制器三的出口依