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一种等离子体增强原子层沉积镀膜装置.pdf
2023-06-16
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本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积镀膜装置，包括反应炉、第一进气支路和第二进气支路，所述反应炉一端设有用于进气的进气端盖，所述第一进气支路和第二进气支路均与所述进气端盖相连、且交替进气。本发明具有有利于使气体反应更加充分、膜层更加均匀、膜厚可以更加精准控制、减少环境污染等优点。
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本发明的原子层沉积装置，包括供气管和吸气管，该供气管具备：供给管体，在其内部沿长度方向形成有供给气体的供气流道；排气部，沿供给管体的长度方向形成于供给管体，并与供气流道连通；该吸气管具备：吸入管体，在其内部沿长度方向形成有吸入气体的吸气流道；吸气部，沿吸入管体的长度方向形成于吸入管体，并与吸气流道连通；供气管和吸气管可以在与基板对供气管和吸气管的相对运动方向交叉的方向上彼此分开形成。本发明一实施例中的原子层沉积装置，分开形成用于供给源气体或反应气体的供给管和用于吸入除去残留气体的吸气管，从而不仅能够减少气
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