一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法.pdf
波峻****99
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一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法.pdf
本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积碳化镍薄膜的设备及方法,包括有载气瓶、氢气瓶、AMD‑Ni单体瓶、DAD‑Ni单体瓶、加热炉、机械泵和射频电源,将AMD‑Ni单体瓶和DAD‑Ni单体瓶放在加热套内,加热套内壁缠上加热带,在加热炉内设有反应腔,反应腔内放有基片台,基片台内置有热电偶,所述的载气瓶的出气口分别连接质量流量控制器一、流量控制器二、流量控制器三,流量控制器一的出口依次连接ALD阀一和AMD‑Ni单体瓶的进口,流量控制器二的出口依次连接ALD阀二和DAD‑Ni单体瓶的进口、流量控制器三的出口依
一种化学气相沉积制备镍薄膜、碳化镍薄膜的设备及其方法.pdf
本发明涉及一种化学气相沉积制备镍薄膜、碳化镍薄膜的设备及其方法。为了解决已有镍薄膜、碳化镍薄膜制备方法存在的工艺流程复杂、薄膜粒子尺寸与形貌难以调控、三维基材台阶覆盖率差的不足,本发明的制备镍薄膜、碳化镍薄膜的方法,在该方法中,使用加热装置对镍单体瓶进行加热,将镍单体挥发为气体,气态镍与载气混合后通入沉积腔中,使用加热炉对沉积腔室进行加热,气态的镍单体在基材表面发生热分解反应生成镍薄膜、碳化镍薄膜与可挥发的副产物,镍薄膜、碳化镍薄膜沉积在基础表面,即得到镍薄膜、碳化镍薄膜。本发明方法相比于其他镍、碳化镍薄
一种等离子体增强原子层沉积镀膜装置.pdf
本发明公开了一种等离子体增强原子层沉积镀膜装置,包括反应炉、第一进气支路和第二进气支路,所述反应炉一端设有用于进气的进气端盖,所述第一进气支路和第二进气支路均与所述进气端盖相连、且交替进气。本发明具有有利于使气体反应更加充分、膜层更加均匀、膜厚可以更加精准控制、减少环境污染等优点。
一种原子层沉积技术制备银薄膜的方法.pdf
本发明涉及一种原子层沉积技术制备银薄膜的方法,包括银前躯体、肼类还原剂、待镀基料、银源罐、还原剂钢瓶、反应室、运输管道、ALD脉冲阀门,所述银前驱提选用液态银源,作为金属有机化合物前驱体与所述待镀基料表面发生化学自饱和吸附并发生交换反应,在所述待镀基料表面生成银置换前驱体,所述银置换前驱体再与肼类还原剂发生还原反应,生成银薄膜。本发明选用液态银源为银前驱体,可以避免银源在使用过程中冷凝从而堵塞阀门,并且可以良好的控制沉积工艺,降低生产成本;选用肼类还原剂为还原性前驱体,可以直接利用热型原子层沉积技术即可沉
一种用于制备铱薄膜的原子层沉积技术及方法.pdf
本发明公开了一种用于制备铱薄膜的原子层沉积技术及方法,包括液态铱源和肼类还原剂,所述液态铱源作为前驱体,肼类还原剂作为还原性前驱体,所述液态铱源可采用1‑乙基环戊二烯基‑1、3‑环己二烯基铱(Ι)等原材料。本发明选用液态铱源Ir为铱前驱体,可以避免铱源在使用过程中冷凝从而堵塞阀门,并且可以良好的控制沉积工艺,降低生产成本,选用肼类还原剂为还原性前驱体,可以直接利用热型原子层沉积技术即可沉积单质铱薄膜,优于现有技术中所使用的等离子NH3、氢气等气体,在使用过程中,更方便、更安全、更容易操作,既可以避免等离子